| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-14页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·国内外研究动态 | 第11-12页 |
| ·本论文的工作 | 第12-14页 |
| 第二章 磁畴的磁力显微镜检测技术 | 第14-33页 |
| ·铁磁材料与磁畴 | 第14-17页 |
| ·铁磁性材料 | 第14-16页 |
| ·磁畴的性质 | 第16-17页 |
| ·磁畴观察技术 | 第17-20页 |
| ·磁力显微镜的介绍 | 第20-25页 |
| ·磁力显微镜的发展历史 | 第20-21页 |
| ·扫描力显微镜的原理 | 第21-23页 |
| ·磁力显微镜的磁畴成像 | 第23-25页 |
| ·本论文中的磁力显微镜及实验过程的影响因素和解决方案 | 第25-33页 |
| ·本论文中的磁力显微镜 | 第25-27页 |
| ·实验过程中的影响因素和解决方案 | 第27-33页 |
| ·针尖磁化状态的影响 | 第27-29页 |
| ·针尖—样品间距的影响 | 第29-30页 |
| ·针尖杂散场对磁畴结构的影响 | 第30-31页 |
| ·不同参数针尖成像质量的对比 | 第31-33页 |
| 第三章 工艺条件对磁畴结构的影响 | 第33-43页 |
| ·薄膜厚度对磁畴结构的影响 | 第33-37页 |
| ·不同薄膜厚度样品的制备与表征手段 | 第33页 |
| ·实验结果 | 第33-36页 |
| ·实验结果分析 | 第36-37页 |
| ·工作气压对薄膜磁畴结构的影响 | 第37-42页 |
| ·不同工作气压下薄膜样品的制备 | 第37-38页 |
| ·实验结果 | 第38-40页 |
| ·实验结果分析 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 应力与剩余磁化强度对薄膜磁畴结构的影响 | 第43-52页 |
| ·外加应力对薄膜磁畴结构的影响 | 第43-47页 |
| ·不同应力样品的制备 | 第43-44页 |
| ·实验结果 | 第44-45页 |
| ·实验结果分析 | 第45-47页 |
| ·薄膜剩余磁化强度对磁畴结构的影响 | 第47-51页 |
| ·实验过程 | 第47页 |
| ·实验结果 | 第47-49页 |
| ·实验结果分析 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第59页 |