铁磁/反铁磁薄膜的制备及磁性研究

第一章 绪论	第1-16页
·交换偏置场	第7-9页
·交换偏置场的研究进展	第9-15页
·本论文的工作	第15-16页
第二章 基本测试方法及测试原理	第16-24页
·多层薄膜的制备	第16页
·薄膜厚度的测量	第16-18页
·薄膜结构表征	第18-20页
·振动样品磁强计	第20-21页
·扫描电子显微镜	第21-24页
第三章 磁控溅射方法制备FeNi/FeMn薄膜	第24-33页
·磁 磁控溅射方法的工作原理	第24-29页
·磁 磁控溅射镀膜过程	第29-30页
·薄 薄膜沉积率的测定	第30-33页
第四章 沉积条件及退火对薄膜影响	第33-39页
·退火对薄膜结构及物相的影响	第33-34页
·衬底偏压对薄膜表面形貌的影响	第34-38页
·本章小结	第38-39页
第五章 不同条件对薄膜磁性的影响	第39-51页
·磁化方向对磁滞回线的影响	第39-40页
·衬底偏压对薄膜磁性的影响	第40-43页
·铁磁层厚度对薄膜磁性的影响	第43-46页
·热处理过程对薄膜磁性的影响	第46-50页
·本章小结	第50-51页
第六章 结论	第51-53页
参考文献	第53-57页
致谢	第57-58页
摘要	第58-60页
Abstract	第60-61页