| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第一章 文献综述 | 第13-33页 |
| ·碲的性质和资源状况 | 第13-15页 |
| ·碲的性质 | 第13-14页 |
| ·碲的资源状况 | 第14-15页 |
| ·碲的提取研究状况及应用 | 第15-24页 |
| ·碲的提取及研究状况 | 第15-21页 |
| ·碲的应用 | 第21-24页 |
| ·辐射制冷用光谱选择性薄膜的研究状况 | 第24-31页 |
| ·辐射制冷技术概述 | 第24-26页 |
| ·辐射制冷技术的应用及研究状况 | 第26-28页 |
| ·辐射制冷用光谱选择性材料研究进展 | 第28-31页 |
| ·本课题研究的意义、目的及主要内容 | 第31-33页 |
| ·课题背景及研究的意义 | 第31-32页 |
| ·课题研究的内容 | 第32-33页 |
| 第二章 铅碲渣中碲的提取新工艺研究 | 第33-73页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·热力学计算与工艺路线的确定 | 第33-49页 |
| ·试验原料的特点 | 第33-34页 |
| ·铅碲渣浸出热力学计算 | 第34-42页 |
| ·浸出原理及探索性试验 | 第42-43页 |
| ·浸出液还原热力学计算 | 第43-46页 |
| ·还原原理及探索性试验 | 第46-48页 |
| ·粗碲粉净化除杂方法及原理 | 第48-49页 |
| ·工艺流程的确定 | 第49页 |
| ·试验研究方法 | 第49-53页 |
| ·物料的来源及性质 | 第49-51页 |
| ·试验试剂、仪器和设备 | 第51-52页 |
| ·试验操作过程 | 第52-53页 |
| ·铅碲渣硫酸浸出工艺研究 | 第53-60页 |
| ·温度对碲浸出率的影响 | 第53页 |
| ·硫酸浓度对碲浸出率的影响 | 第53-54页 |
| ·时间对碲浸出率的影响 | 第54-55页 |
| ·液固比对碲浸出率的影响 | 第55-56页 |
| ·搅拌速度对碲浸出率的影响 | 第56-57页 |
| ·粒度对碲浸出率的影响 | 第57-58页 |
| ·浸出控制步骤的判定 | 第58-59页 |
| ·最佳浸出条件验证试验 | 第59-60页 |
| ·碲浸出液中碲的还原试验 | 第60-67页 |
| ·亚硫酸钠还原 | 第60-64页 |
| ·二氧化硫还原 | 第64-67页 |
| ·粗碲粉净化除杂工艺研究 | 第67-69页 |
| ·粗碲粉脱硒试验 | 第67-69页 |
| ·粗碲粉酸洗除杂试验 | 第69页 |
| ·酸浸-还原-除杂酸法工艺的优缺点 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-73页 |
| 第三章 酸浸-还原-除杂工艺扩大试验及技术经济分析 | 第73-80页 |
| ·原料及原料预处理 | 第73页 |
| ·实验设备、分析仪器及试剂 | 第73-74页 |
| ·酸浸-还原-除杂工艺的扩大试验 | 第74-78页 |
| ·铅碲渣硫酸浸出试验 | 第74-75页 |
| ·含碲浸出液的二氧化硫还原试验 | 第75-76页 |
| ·粗碲粉净化试验 | 第76-77页 |
| ·酸浸-还原-除杂工艺扩大试验的金属平衡 | 第77-78页 |
| ·酸浸-还原-除杂酸法工艺扩大试验的技术经济分析 | 第78-79页 |
| ·废水及废渣处理 | 第79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第四章 化学法制备高纯碲 | 第80-97页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·高纯碲的制备方法简述 | 第80-83页 |
| ·化学法 | 第80-81页 |
| ·物理法 | 第81-83页 |
| ·化学法制备高纯碲的原理简述 | 第83-88页 |
| ·化学法制备高纯碲的工艺过程 | 第83-85页 |
| ·亚碲酸钠溶液中杂质元素深度净化的热力学计算 | 第85-88页 |
| ·试验研究方法 | 第88-89页 |
| ·试验原料 | 第88页 |
| ·试验试剂、仪器及设备 | 第88-89页 |
| ·试验操作过程 | 第89页 |
| ·化学法制备高纯碲的工艺研究 | 第89-95页 |
| ·精碲粉硝酸氧化制取二氧化碲 | 第89-90页 |
| ·二氧化碲硫化物除杂的工艺条件研究 | 第90-94页 |
| ·二氧化碲除硒试验 | 第94页 |
| ·SO_2还原制取高纯碲粉 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 第五章 光谱选择性碲膜的制备及性能研究 | 第97-125页 |
| ·引言 | 第97页 |
| ·试验材料、设备与仪器 | 第97-100页 |
| ·试验材料 | 第97-98页 |
| ·薄膜制备设备 | 第98-99页 |
| ·样品的制备 | 第99-100页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第100-101页 |
| ·薄膜厚度的检测 | 第100页 |
| ·薄膜成分检测 | 第100页 |
| ·薄膜的物相分析 | 第100页 |
| ·薄膜的显微组织结构 | 第100-101页 |
| ·薄膜的光学性能检测 | 第101页 |
| ·薄膜附着力的测量 | 第101页 |
| ·薄膜的结构和性能研究 | 第101-123页 |
| ·基体的结构和性能 | 第101-104页 |
| ·沉积工艺条件对薄膜结构和性能的影响 | 第104-123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 第六章 化学气相沉积碲膜的过程及碲膜的形成机理 | 第125-146页 |
| ·化学气相沉积碲膜的原理及沉积机理 | 第125-130页 |
| ·化学气相沉积碲膜过程的热力学 | 第125-126页 |
| ·化学气相沉积碲膜过程的动力学 | 第126-130页 |
| ·碲薄膜的成核生长 | 第130-137页 |
| ·概述 | 第130-131页 |
| ·成核理论 | 第131-133页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第133-134页 |
| ·薄膜的成核与生长 | 第134-137页 |
| ·碲膜生长过程的SEM和EDX研究 | 第137-145页 |
| ·试验方法 | 第137页 |
| ·试验结果及讨论 | 第137-143页 |
| ·碲薄膜的形成过程 | 第143-145页 |
| ·本章小结 | 第145-146页 |
| 第七章 结论 | 第146-149页 |
| 参考文献 | 第149-167页 |
| 致谢 | 第167-168页 |
| 攻读博士学位期间发表的文章和参加的科研项目 | 第168-169页 |
| 攻读博士学位期间参加的科研项目 | 第169页 |
| 攻读博士学位期间获得的奖励 | 第169页 |