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ZnO薄膜制备及其光、电性能研究

摘要第1-8页
Abstract第8-13页
第一章 前言第13-34页
   ·概述第13页
   ·ZnO 的晶体结构及薄膜的优点第13-14页
   ·ZnO 薄膜制备方法第14-18页
     ·磁控溅射工艺(Megnetron Sputtering)第15-16页
     ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel)第16页
     ·脉冲激光沉积(PLD)工艺第16-17页
     ·分子束外延第17-18页
     ·金属有机化合物气相沉积第18页
   ·ZnO 薄膜的应用研究第18-23页
     ·ZnO 薄膜集成光学上的应用第19-20页
     ·ZnO 薄膜在压电器件方面的应用第20-23页
   ·ZnO 薄膜性能的研究进展第23-26页
     ·ZnO 薄膜的定向性研究第23-24页
     ·ZnO 薄膜的掺杂研究第24-25页
     ·ZnO 薄膜的光电性能研究第25-26页
   ·低维纳米ZnO 材料的研究进展第26-27页
   ·本课题的提出及研究内容第27-29页
 本章参考文献第29-34页
第二章 Sol-gel 法工艺的确定第34-41页
   ·溶胶-凝胶体系的选用第34页
   ·溶胶配制与薄膜制备工艺第34-36页
   ·热处理温度的确定第36-38页
   ·旋涂制度的确定第38-40页
   ·本章小结第40页
 本章参考文献第40-41页
第三章 Li、Mg 掺杂对sol-gel 法制备的 ZnO 薄膜性能的影响第41-66页
   ·引言第41-43页
   ·实验过程第43-44页
   ·结果与讨论第44-63页
     ·掺杂对ZnO 薄膜性能的影响第44-54页
     ·制备工艺参数对 ZnO 薄膜性能的影响第54-61页
     ·薄膜发光性能的研究第61-63页
   ·本章小结第63-64页
 本章参考文献第64-66页
第四章 RF 磁控溅射法制备不同择优取向的ZnO 薄膜第66-82页
   ·引言第66-67页
   ·实验过程第67页
   ·结果与讨论第67-80页
     ·磁控溅射功率对 ZnO 薄膜定向性的影响第67-70页
     ·基片温度对ZnO 薄膜定向性的影响第70-72页
     ·热处理温度对ZnO 薄膜定向性的影响第72-74页
     ·从不同制备条件下ZnO 薄膜晶胞参数的变化讨论ZnO 薄膜的定向机理第74-75页
     ·不同取向ZnO 薄膜的表面形貌第75-78页
     ·制备条件对ZnO 薄膜电阻率的影响第78-79页
     ·Si(111)基片上制备ZnO 薄膜的对比研究第79-80页
   ·本章小结第80页
 本章参考文献第80-82页
第五章 不同择优取向 ZnO 薄膜发光性能的研究第82-94页
   ·引言第82-83页
   ·实验过程第83页
   ·结果与讨论第83-91页
     ·不同择优取向的 ZnO 薄膜的透过率与光学禁带宽度的研究第83-87页
     ·不同择优取向ZnO 薄膜的PL 谱研究第87-91页
   ·本章小结第91-92页
 本章参考文献第92-94页
第六章 过渡层对 ZnO 薄膜性能的影响第94-110页
   ·引言第94-95页
   ·实验过程第95-96页
   ·结果与讨论第96-107页
     ·过渡层种类对ZnO 薄膜性能的影响第96-101页
     ·RF 功率对Mg:ZnO 过渡层的ZnO 薄膜的性能影响第101-104页
     ·基片温度对Mg:ZnO 过渡层上的ZnO 薄膜的性能影响第104-105页
     ·热处理温度对Mg:ZnO 过渡层上的ZnO 薄膜的性能影响第105-107页
   ·本章小结第107-108页
 本章参考文献第108-110页
第七章 实验中一些特殊现象的探讨第110-119页
   ·概述第110页
   ·ZnO 纳米棒阵列的探讨第110-114页
   ·含过渡层薄膜表面的一些特殊现象探讨第114-117页
   ·本章小结第117-118页
 本章参考文献第118-119页
第八章 总结第119-122页
   ·主要结论与创新点第119-121页
   ·未来工作展望第121-122页
作者在攻读博士学位期间发表的学术论文第122-123页
致谢第123-124页
博硕士学位论文同意发表声明第124-125页
发表意见书第125页

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