| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1．1 引言 | 第10-11页 |
| 1．2 FeS_2薄膜研究的兴起 | 第11-12页 |
| 1．3 FeS_2薄膜的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1．4 FeS_2薄膜的研究现状 | 第13-28页 |
| 1．4．1 FeS_2薄膜的制备方法 | 第13-23页 |
| 1．4．1．1 热蒸镀及闪蒸镀 | 第13-14页 |
| 1．4．1．2 化学气相沉积(CVD) | 第14-16页 |
| 1．4．1．3 离子溅射和磁控溅射 | 第16-17页 |
| 1．4．1．4 离子溅射和磁控溅射 | 第17-18页 |
| 1．4．1．5 化学气相输运(CVT) | 第18-19页 |
| 1．4．1．6 分子束外延生长(MBE) | 第19页 |
| 1．4．1．7 Fe膜的热硫化 | 第19-21页 |
| 1．4．1．8 氧化铁膜的硫化 | 第21-22页 |
| 1．4．1．9 电沉积 | 第22-23页 |
| 1．4．2 FeS_2薄膜的光电性能 | 第23-27页 |
| 1．4．2．1 制备方法对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第23-24页 |
| 1．4．2．2 硫化工艺对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第24-25页 |
| 1．4．2．3 掺杂对FeS_2薄膜光电性能的影响 | 第25-27页 |
| 1．4．3 FeS_2薄膜的光电转化效率 | 第27-28页 |
| 1．5 FeS_2薄膜研究中存在的问题及发展方向 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-33页 |
| 2．1 FeS_2薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2．2 FeS_2薄膜的性能测试 | 第31-33页 |
| 第三章 硫化时间对FeS_2薄膜组织结构及光电性能的影响 | 第33-44页 |
| 3．1 先驱体薄膜的形成和检测 | 第33-34页 |
| 3．2 硫化时间对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第34-35页 |
| 3．3 硫化时间对薄膜晶体尺寸的影响 | 第35-36页 |
| 3．4 硫化时间对薄膜晶格常数的影响 | 第36-38页 |
| 3．5 硫化时间对薄膜组织形貌的影响 | 第38-39页 |
| 3．6 硫化时间对薄膜光学性能的影响 | 第39-40页 |
| 3．7 硫化时间对薄膜电学性能的影响 | 第40-42页 |
| 3．8 硫化时间对薄膜导电类型的影响 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 硫化压力对FeS_2薄膜组织结构及光电性能的影响 | 第44-54页 |
| 4．1 硫化压力对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第44-45页 |
| 4．2 硫化压力对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第45-46页 |
| 4．3 硫化压力对薄膜晶格常数的影响 | 第46-47页 |
| 4．4 硫化压力对薄膜组织形貌的影响 | 第47-48页 |
| 4．5 硫化压力对薄膜光学性能的影响 | 第48-51页 |
| 4．6 硫化压力对薄膜电学性能的影响 | 第51-53页 |
| 4．7 硫化压力对薄膜导电类型的影响 | 第53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 硫化温度对FeS_2薄膜组织结构及光电性能的影响 | 第54-66页 |
| 5．1 反应热力学分析 | 第54-55页 |
| 5．2 硫化温度对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第55-56页 |
| 5．3 硫化温度对薄膜晶粒尺寸的影响 | 第56-58页 |
| 5．4 硫化温度对薄膜晶格常数的影响 | 第58-59页 |
| 5．5 硫化温度对薄膜组织形貌的影响 | 第59-60页 |
| 5．6 硫化温度对薄膜光学性能的影响 | 第60-63页 |
| 5．7 硫化温度对薄膜电学性能的影响 | 第63-64页 |
| 5．8 硫化温度对薄膜导电类型的影响 | 第64-65页 |
| 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
