| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-36页 |
| 1． 模板合成的发展历史和研究现状 | 第12-24页 |
| 1．1 液晶模板制备纳米材料 | 第13-21页 |
| 1．1．1 表面活性剂的聚集状态 | 第13-15页 |
| 1．1．2 表面活性剂液晶相的检测手段 | 第15-16页 |
| 1．1．3 液晶模板合成的发展历史和研究现状 | 第16-20页 |
| 1．1．4 表面活性剂及液晶模板合成的机理 | 第20-21页 |
| 1．2 其他重要模板合成概述 | 第21-23页 |
| 1．2．1 多孔阳极氧化铝膜 | 第21-22页 |
| 1．2．2 刻蚀模板 | 第22-23页 |
| 1．2．3 多孔硅酸盐模板 | 第23页 |
| 1．2．4 生物模板 | 第23页 |
| 1．2．5 碳纳米管 | 第23页 |
| 1．2．6 聚苯乙烯自组装模板 | 第23页 |
| 1．3 模板合成方法及电化学方法在模板合成中的优势 | 第23-24页 |
| 2． 分形电沉积概述 | 第24-28页 |
| 2．1 分形理论简介 | 第24-26页 |
| 2．2 分形理论在电化学中的应用 | 第26页 |
| 2．3 分形电沉积的研究进展 | 第26-28页 |
| 3． 本工作的立题思想和研究内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-36页 |
| 第二章 液晶模板电沉积制备 Ni介孔薄膜 | 第36-56页 |
| 2．1 引言 | 第36页 |
| 2．2 实验部分 | 第36-40页 |
| 2．2．1 实验仪器 | 第37页 |
| 2．2．2 实验药品 | 第37页 |
| 2．2．3 实验方法 | 第37-40页 |
| 2．2．3．1 液晶体系的配制 | 第37页 |
| 2．2．3．2 DSC测试体系相变温度 | 第37-38页 |
| 2．2．3．3 体系的偏光显微镜照片 | 第38页 |
| 2．2．3．4 液晶体系中的循环伏安行为 | 第38页 |
| 2．2．3．5 液晶体系中的i-t曲线 | 第38页 |
| 2．2．3．6 Ni介孔薄膜的 TEM表征 | 第38页 |
| 2．2．3．7 Ni介孔薄膜电极及两种对比电极的制备 | 第38-39页 |
| 2．2．3．8 Ni介孔薄膜真实表面积的计算 | 第39页 |
| 2．2．3．9 Ni介孔薄膜作为析氢电极的应用 | 第39-40页 |
| 2．2．3．10 Ni介孔薄膜作为电化学电容器的应用 | 第40页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第40-54页 |
| 2．3．1 体系的DSC曲线及相稳定温度范围 | 第40-41页 |
| 2．3．2 体系偏光显微镜下的光学织构及其相态的判断 | 第41-43页 |
| 2．3．3 液晶体系中的循环伏安行为 | 第43-45页 |
| 2．3．4 液晶体系中的电流时间曲线 | 第45-47页 |
| 2．3．5 Ni介孔薄膜的 TEM表征 | 第47-49页 |
| 2．3．6 Ni介孔薄膜真实表面积的求算 | 第49-50页 |
| 2．3．7 Ni介孔薄膜作为析氢电极的应用 | 第50-51页 |
| 2．3．8 Ni介孔薄膜作为电化学电容器电极材料的应用 | 第51-54页 |
| 2．4 本章小结 | 第54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第三章 二维锌枝晶生长行为研究 | 第56-68页 |
| 3．1 引言 | 第56-57页 |
| 3．2 实验部分 | 第57-58页 |
| 3．2．1 实验装置、药品及操作 | 第57-58页 |
| 3．2．2 脉冲电压对沉积物形貌的影响 | 第58页 |
| 3．2．3 Zn~2+浓度及电解池电位分布测定 | 第58页 |
| 3．2．4 电解池电位分布测定 | 第58页 |
| 3．3 结果与讨论 | 第58-66页 |
| 3．3．1 锌二维电沉积结晶物的形貌分布图 | 第58-61页 |
| 3．3．2 薄层液体中的浓度分布 | 第61-62页 |
| 3．3．3 薄层液体中的电位分布 | 第62页 |
| 3．3．4 薄层液体中Zn~2+流向分析 | 第62-63页 |
| 3．3．5 不同电沉积条件下的电流时间关系气 | 第63-64页 |
| 3．3．6 支持电解质对锌枝晶形貌的影响 | 第64-65页 |
| 3．3．7 全氟表面活性剂对锌枝晶形貌的影响 | 第65页 |
| 3．3．8 脉冲电压对锌枝晶形貌的影响 | 第65-66页 |
| 3．4 本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
