| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英中摘要 | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-22页 |
| 1．1 表面工程技术工艺技术的近代发展 | 第6-8页 |
| 1．1．1 激光束引发了新进展 | 第6页 |
| 1．1．2 电子束导致了新进步 | 第6-8页 |
| 1．1．3 离子束取得的新成就 | 第8页 |
| 1．1．4 三束强化气相沉积技术 | 第8页 |
| 1．2 薄膜技术 | 第8-13页 |
| 1．2．1 等离子体及其特征 | 第10-12页 |
| 1．2．2 辉光放电 | 第12-13页 |
| 1．2．3 弧光放电 | 第13页 |
| 1．3 离子镀技术 | 第13-20页 |
| 1．3．1 多弧离子镀 | 第15-16页 |
| 1．3．2 空心阴极放电离子镀 | 第16-17页 |
| 1．3．3 磁控溅射离子镀 | 第17-18页 |
| 1．3．4 离子注入 | 第18-20页 |
| 1．4 工具行业刀具离子镀现况和发展趋势 | 第20-22页 |
| 第二章 非平衡闭合磁场磁控溅射设备的研制 | 第22-30页 |
| 2．1 设计方案 | 第22页 |
| 2．2 非平衡闭合磁场溅射离子镀简介 | 第22页 |
| 2．3 技术指标 | 第22-23页 |
| 2．4 设备几个关键尺寸的理论计算 | 第23-25页 |
| 2．4．1 真空室壳体壁厚的理论计算 | 第23-24页 |
| 2．4．2 真空室上下平板法兰的厚度的理论计算 | 第24页 |
| 2．4．3 真空机组的理论计算 | 第24-25页 |
| 2．5 部分设计图 | 第25页 |
| 2．6 设备外貌图 | 第25页 |
| 2．7 设备内部图 | 第25页 |
| 2．8 设备达到的性能 | 第25-30页 |
| 第三章 非平衡闭合磁场磁控溅射设备的应用 | 第30-42页 |
| 3．1 工艺实验 | 第30页 |
| 3．1．1 工艺流程 | 第30页 |
| 3．1．2 工艺参数 | 第30页 |
| 3．2 工艺实验研究及分析 | 第30-37页 |
| 3．2．1 涂层的X衍射分析 | 第30-32页 |
| 3．2．2 涂层的断口分析 | 第32-33页 |
| 3．2．3 涂层的厚度及 C、N的影响 | 第33-34页 |
| 3．2．4 复合膜与基体结合强度的测定与分析 | 第34-36页 |
| 3．2．5 涂层时温度的控制 | 第36-37页 |
| 3．3 复合涂层硬质合金刀具的切削实验 | 第37-39页 |
| 3．3．1 复合涂层硬质合金螺纹刀具的切削试验 | 第37-38页 |
| 3．3．2 涂层硬质合金螺纹梳刀P8N1-7的切削试验 | 第38页 |
| 3．3．3 涂层硬质合金螺纹梳刀P5BN1-5的切削试验 | 第38-39页 |
| 3．3．4 复合涂层硬质合金阶梯钻的切削试验 | 第39页 |
| 3．4 批量进行硬质合金刀具复合涂层时的工艺特点与质量检查 | 第39-40页 |
| 3．4．1 生产能力 | 第39页 |
| 3．4．2 工艺特点 | 第39-40页 |
| 3．4．3 复合涂层硬质合金刀具的质量检查 | 第40页 |
| 3．5 国内外技术情况分析 | 第40-41页 |
| 3．6 经济(或社会)效益预测分析 | 第41-42页 |
| 第四章 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 附录 | 第45-66页 |
| 声明 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
