| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| ·二极管泵浦被动调Q 微片激光器的国内外发展动态 | 第9-10页 |
| ·本论文的主要工作 | 第10-12页 |
| 第二章 微片被动调Q 激光器的工作原理 | 第12-22页 |
| ·激光工作物质 | 第12-16页 |
| ·物理性能及光谱特性 | 第12-14页 |
| ·能级结构 | 第14-15页 |
| ·激光特性 | 第15-16页 |
| ·饱和吸收体 | 第16-18页 |
| ·被动调Q 激光器的调Q 过程 | 第18页 |
| ·CR:YAG 被动调Q 的二极管泵浦ND:YAG 微片激光器 | 第18-22页 |
| ·热键合法 | 第19-20页 |
| ·液相外延法 | 第20-22页 |
| 第三章 被动调Q 微片激光器的计算机仿真 | 第22-37页 |
| ·速率方程组分析 | 第22-25页 |
| ·被动调Q 速率方程组的三点改进 | 第25-27页 |
| ·编程思路 | 第27-33页 |
| ·仿真算法 | 第27-29页 |
| ·实现方法 | 第29-30页 |
| ·程序流程 | 第30-33页 |
| ·仿真结果及结果分析 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 微片被动调Q 参数的理论优化 | 第37-48页 |
| ·调Q 输出参数的解析解推导 | 第37-41页 |
| ·参数优化程序设计 | 第41页 |
| ·程序设计的流程图 | 第41-42页 |
| ·优化参数的设定 | 第42-43页 |
| ·参数优化图形及分析 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 外延微片被动调 Q 实验 | 第48-61页 |
| ·实验对象 | 第48-50页 |
| ·液相外延方式制备的微片 | 第48页 |
| ·热键合方式制备的微片 | 第48-49页 |
| ·饱和吸收体基态粒子浓度的计算 | 第49-50页 |
| ·镀膜要求 | 第50页 |
| ·实验装置 | 第50-53页 |
| ·泵浦源 | 第50-51页 |
| ·电流驱动 | 第51-52页 |
| ·测量仪器 | 第52-53页 |
| ·实验结果 | 第53-57页 |
| ·实验结果分析 | 第57-60页 |
| ·仿真与实验差异分析 | 第57-58页 |
| ·外延微片与键合微片实验结果差异分析 | 第58-60页 |
| ·实验存在的问题及进一步的工作 | 第60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历及攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |
| 个人简历 | 第65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |