| 第一章 引言 | 第1-15页 |
| ·蓬勃兴起的薄膜产业 | 第7-10页 |
| ·异常晶粒生长研究在薄膜材料设计中的意义 | 第10-15页 |
| ·薄膜的微结构及其特性强烈地依赖于制备和后处理工艺 | 第10-12页 |
| ·退火过程中的异常晶粒生长及伴随的织构演变 | 第12-15页 |
| 第二章 表面能驱动薄膜中的异常晶粒生长 | 第15-20页 |
| ·能量各向异性驱动薄膜中异常晶粒生长的理论模型 | 第15-18页 |
| ·表面能各向异性对薄膜中异常晶粒生长的驱动作用 | 第18-20页 |
| 第三章 晶体表面能各向异性的理论分析 | 第20-48页 |
| ·计算方法-改进嵌入原子法(MEAM) | 第20-26页 |
| ·改进嵌入原子法的基本思想 | 第20-22页 |
| ·改进嵌入原子法在晶体表面能计算中的应用 | 第22-26页 |
| ·面心立方(FCC)金属的表面能 | 第26-37页 |
| ·体心立方(BCC)金属的表面能 | 第37-42页 |
| ·金刚石(Diamond)结构晶体的表面能 | 第42-48页 |
| 第四章 表面能各向异性驱动薄膜中异常晶粒生长的实验研究 | 第48-55页 |
| ·样品制备 | 第48页 |
| ·Cu和Ag薄膜织构演变的X-射线衍射(XRD)分析 | 第48-50页 |
| ·Cu和Ag膜中异常晶粒生长的透射电子显微镜(TEM)观察和选区电子衍射(SAED)分析 | 第50-55页 |
| 总结 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第63页 |
