二氧化锡纳米孔的制备及其性能研究
中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第1章 绪论 | 第9-18页 |
·引言 | 第9-10页 |
·纳米半导体材料的概念、性能、应用及制备方法 | 第10-18页 |
·纳米半导体材料的概念 | 第10页 |
·纳米半导体材料的性能及应用 | 第10-14页 |
·纳米半导体材料的制备方法 | 第14-18页 |
第2章 二氧化锡材料概述 | 第18-27页 |
·SnO_2纳米材料结构、性能及应用 | 第18-20页 |
·纳米二氧化锡的结构 | 第18-19页 |
·SnO_2纳米材料的性能 | 第19页 |
·SnO_2纳米材料的应用 | 第19-20页 |
·纳米孔膜的发展 | 第20-25页 |
·KHR 模型 | 第20-22页 |
·Murphy 模型 | 第22-23页 |
·Wood 等其他模型 | 第23页 |
·二氧化锡纳米孔生成机理 | 第23-25页 |
·国内外 SnO_2纳米材料的研究现状 | 第25-27页 |
·纳米结构二氧化锡的形貌和微结构研究现状 | 第25-26页 |
·纳米 SnO_2的气敏性能研究现状 | 第26-27页 |
第3章 二氧化锡纳米孔的制备及表征 | 第27-41页 |
·实验装置 | 第27-28页 |
·实验所需设备及其仪器 | 第28页 |
·实验材料 | 第28页 |
·试验用电解液 | 第28页 |
·实验条件 | 第28-29页 |
·实验结果与讨论 | 第29-40页 |
·电解液为硫酸钠溶液 | 第29-30页 |
·电解液为磷酸溶液 | 第30-34页 |
·电解液为草酸溶液 | 第34-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第4章 玻璃衬底上二氧化锡多孔膜的制备及性能测试 | 第41-50页 |
·制备材料需要的试剂及设备 | 第41-42页 |
·制备材料的反应过程 | 第42页 |
·实验制得纳米孔的形貌分析 | 第42-43页 |
·气敏性能测试 | 第43-49页 |
·气敏元件主要性能参数 | 第43-44页 |
·实验所需仪器和药品 | 第44-45页 |
·气敏特性测试 | 第45-48页 |
·稳定性的测试 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第5章 二氧化锡气体传感器的结构设计 | 第50-56页 |
·半导体气敏传感器的工作原理 | 第50-51页 |
·气体吸附理论 | 第51-52页 |
·气体传感器结构 | 第52-53页 |
·气体传感器工艺模拟 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
致谢 | 第61页 |