第一章 绪论 | 第1-29页 |
·纳米科学技术的发展 | 第15-21页 |
·纳米科学技术 | 第15页 |
·纳米科技中基于纳米粉体研究及应用的主要内容及方向 | 第15-21页 |
·零件表面纳米化与纳米结构组装三大技术群 | 第21-26页 |
·表面纳米改性技术现状及其发展 | 第21-22页 |
·纳米薄膜技术及其发展 | 第22-24页 |
·纳米涂镀层技术 | 第24-25页 |
·激光及其复合技术在纳米表面工程中的应用 | 第25-26页 |
·纳米改性陶瓷结构涂层及其应用展望 | 第26-27页 |
·本文的研究背景及研究内容 | 第27-29页 |
第二章 激光作用下纳米晶粒生长模型 | 第29-41页 |
·纳米材料烧结过程晶粒生长模型 | 第29-30页 |
·一维半无限大激光加热模型 | 第30-32页 |
·计算结果及分析讨论 | 第32-39页 |
·本章主要结论 | 第39-41页 |
第三章 陶瓷系列预涂层等离子喷涂制备技术 | 第41-57页 |
·概述 | 第41页 |
·等离子喷涂技术及应用 | 第41-44页 |
·等离子喷涂原理及应用 | 第41-42页 |
·等离子喷涂实验设备及工艺 | 第42-44页 |
·涂层结构设计及分析 | 第44-46页 |
·涂层材料选择 | 第44页 |
·涂层结构设计 | 第44-46页 |
·实验设备及样品制备 | 第46页 |
·等离子喷涂系列陶瓷涂层相组成与微观结构分析 | 第46-54页 |
·Al_2O_3陶瓷涂层相组成与微观结构分析 | 第47-48页 |
·Al_2O_3+13wt%TiO_2陶瓷涂层相组成与微观结构分析 | 第48-53页 |
·WC-Co陶瓷涂层相组成与微观结构分析 | 第53-54页 |
·等离子喷涂层结合强度测试及分析 | 第54-56页 |
·实验条件及设备 | 第54-55页 |
·结果分析 | 第55-56页 |
·本章主要结论 | 第56-57页 |
第四章 激光熔覆纳米渗入陶瓷系列涂层制备技术研究 | 第57-80页 |
·概述 | 第57-58页 |
·纳米陶瓷涂层设计与微观组织结构分析 | 第58-71页 |
·n1-TC1陶瓷涂层微观组织结构分析 | 第58-61页 |
·n1-TC3陶瓷涂层微观组织结构分析 | 第61-63页 |
·n2-TC4陶瓷涂层微观组织结构分析 | 第63-66页 |
·n2-TC3陶瓷涂层微观组织结构分析 | 第66-71页 |
·涂层中纳米分布状态分析 | 第71-76页 |
·线扫描能谱图及成分分析 | 第72页 |
·点的能谱及成份分析 | 第72-74页 |
·面扫描能谱图及成分分析 | 第74-76页 |
·陶瓷系列涂层中纳米陶瓷作用机理初步研究 | 第76-79页 |
·纳米Al_2O_3和SiC对涂层组织致密化、晶粒细化的贡献 | 第76-77页 |
·涂层中纳米Al_2O_3或SiC所构成的独特显微结构特征分析 | 第77-78页 |
·涂层中纳米晶粒的作用机理浅析 | 第78-79页 |
·本章主要结论 | 第79-80页 |
第五章 陶瓷涂层性能测试及分析 | 第80-102页 |
·陶瓷系列涂层硬度测试与分析 | 第80-86页 |
·氧化铝等离子喷涂层硬度及分析 | 第80-81页 |
·相同Al_2O_3陶瓷体系渗入不同纳米材料的硬度分析比较 | 第81-83页 |
·不同工艺下WC-Co陶瓷涂层硬度比较 | 第83-84页 |
·不同底层渗入相同纳米的涂层硬度分析比较 | 第84页 |
·本节主要结论 | 第84-86页 |
·陶瓷系列涂层耐磨性能测试与分析 | 第86-94页 |
·等离子喷涂Al_2O_3与Al_2O_3+13%Wt.TiO_2涂层磨损曲线对比分析 | 第86-87页 |
·等离子喷涂Al_2O_3/TiO_2涂层与纳米改性陶瓷层磨损曲线对比分析 | 第87-88页 |
·等离子喷涂、激光重熔、激光熔覆纳米改性层磨损曲线对比分析 | 第88-89页 |
·不同底层材料下渗入相同纳米材料涂层磨损曲线比较 | 第89页 |
·相同底层材料Al_2O_3下渗入不同纳米材料涂层的比较 | 第89-92页 |
·简单分析与讨论 | 第92-93页 |
·本节主要结论 | 第93-94页 |
·陶瓷系列涂层腐蚀行为分析 | 第94-102页 |
·Al_2O_3/TiO_2复合陶瓷涂层的耐腐蚀性分析 | 第94-98页 |
·WC-Co系列复合陶瓷涂层的耐腐蚀性 | 第98-99页 |
·进一步分析与讨论 | 第99-101页 |
·本节主要结论 | 第101-102页 |
第六章 纳米陶瓷块体材料的激光烧结快速成型技术初步试验研究 | 第102-117页 |
·纳米陶瓷粉末激光选择性烧结 | 第102-103页 |
·基于不同基体材料的块体烧结试验研究 | 第103-110页 |
·Al_2O_3陶瓷基片上纳米SiC块体的烧结 | 第103-105页 |
·Al_2O_3陶瓷基片上纳米Al_2O_3的烧结 | 第105-107页 |
·42SiMn基体上纳米SiC的烧结 | 第107-110页 |
·基于压片态的单层烧结试验研究 | 第110-116页 |
·实验材料与方法 | 第111页 |
·形貌及组织分析 | 第111-114页 |
·硬度曲线及分析 | 第114-115页 |
·简单分析与讨论 | 第115-116页 |
·本章主要结论 | 第116-117页 |
第七章 总结与展望 | 第117-119页 |
·本文的主要工作和结论 | 第117-118页 |
·今后的工作展望 | 第118-119页 |
致谢 | 第119-120页 |
攻读博士学位期间发表的主要论文及参加的科研项目 | 第120-122页 |
参考文献 | 第122-130页 |