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微弧氧化电源波形实现及负脉冲作用研究

摘要第1-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第9-16页
   ·微弧氧化简介第9-11页
   ·微弧氧化的基本原理和过程第11-12页
   ·微弧氧化技术发展及研究现状第12-14页
   ·研究目标第14-16页
第2章 微弧氧化电源主电路设计第16-25页
   ·微弧氧化电源介绍第16-17页
   ·变压器的选择第17-18页
   ·整流电路及整流器件选择第18-21页
     ·整流器件的选择第19-20页
     ·滤波电容计算第20-21页
   ·斩波电路及开关元件选择第21-24页
     ·斩波电路的选择第21-22页
     ·开关器件的选择第22-24页
   ·开关器件容量的选择第24页
   ·本章小结第24-25页
第3章 微弧氧化控制电路设计第25-43页
   ·整流电路控制系统介绍第25-34页
     ·单片机最小系统第25-29页
     ·TC787 功能介绍第29-31页
     ·触发信号产生电路第31-32页
     ·采样及预置电路第32-33页
     ·电源监控电路第33-34页
   ·驱动电路第34-42页
     ·脉冲实现电路第34-35页
     ·IGBT 对驱动电路的要求第35-39页
     ·EXB841 驱动电路第39-42页
     ·保护电路第42页
   ·本章小结第42-43页
第4章 负电压的作用机理第43-50页
   ·电源模式对微弧氧化膜层性能的影响第43-44页
     ·直流电源和脉冲直流电源的影响第43页
     ·不同脉冲电源的影响第43-44页
   ·阴阳离子在微弧氧化中的作用第44-45页
   ·负向电压的作用第45-47页
     ·负向电压对微弧氧化膜层厚度作用第45-46页
     ·负向电压对膜层表面形貌的作用第46页
     ·负向电压对电流的影响第46-47页
     ·负向脉冲占空比对膜层厚度的作用第47页
   ·负电压作用机理分析第47-49页
   ·本章小结第49-50页
第5章 系统调试及工艺试验结果第50-55页
   ·脱机调试第50-52页
     ·触发脉冲第50页
     ·整流电路输出波形第50-51页
     ·单片机输出脉冲第51页
     ·EXB841 输出脉冲第51-52页
   ·联机调试第52页
   ·工艺试验第52-54页
     ·试验材料的制备第52-53页
     ·负电压对微弧氧化膜层形貌的影响第53-54页
   ·本章小结第54-55页
结论第55-56页
参考文献第56-59页
致谢第59-60页
附录 A 攻读学位期间发表的论文第60页

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