TiO2介孔薄膜的制备及其光电性质研究
| 中文摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·有序介孔材料 | 第8-13页 |
| ·有序介孔材料的定义与特性 | 第8-10页 |
| ·有序介孔材料的合成 | 第10页 |
| ·有序介孔材料的合成机理 | 第10-12页 |
| ·有序介孔材料的结构表征 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛介孔材料 | 第13-21页 |
| ·TiO_2介孔粉末 | 第14-15页 |
| ·TiO_2介孔薄膜 | 第15-21页 |
| ·氮掺杂TiO_2介孔薄膜 | 第21-22页 |
| ·本论文研究的意义、思路及主要内容 | 第22-23页 |
| ·论文研究的意义和思路 | 第22-23页 |
| ·本论文的主要内容 | 第23页 |
| 参考文献 | 第23-28页 |
| 第二章 TiO_2介孔薄膜的制备与结构表征 | 第28-40页 |
| ·背景 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·实验试剂 | 第29页 |
| ·测试仪器 | 第29页 |
| ·试验步骤 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-36页 |
| ·不同陈化时间对介孔结构的影响 | 第30-31页 |
| ·不同煅烧温度对介孔结构的影响 | 第31-36页 |
| ·SEM分析 | 第36页 |
| ·机理分析 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37页 |
| 参考文献 | 第37-40页 |
| 第三章 TiO_2介孔薄膜的紫外光电响应性质研究 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40-42页 |
| ·实验部分 | 第42-43页 |
| ·实验仪器 | 第42页 |
| ·紫外光电检测器的组装 | 第42-43页 |
| ·结果与分析 | 第43-45页 |
| ·UV-Vis表征 | 第43页 |
| ·薄膜的I-V曲线 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第四章 N掺杂TiO_2介孔薄膜的制备与表征 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·实验仪器 | 第49页 |
| ·N掺杂TiO_2介孔薄膜的制备 | 第49页 |
| ·表征仪器 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·TEM分析 | 第50页 |
| ·XRD分析 | 第50-55页 |
| ·本章小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第58-60页 |
| ·工作总结 | 第58-59页 |
| ·问题与展望 | 第59-60页 |
| 硕士期间发表和完成的论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
