| 提要 | 第1-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·原子团簇的定义 | 第9-10页 |
| ·原子团簇的发展现状 | 第10-11页 |
| ·硅锗团簇的研究进展简介 | 第11-12页 |
| ·论文课题选择，研究目的和研究内容 | 第12-15页 |
| 第二章 理论基础和计算方法 | 第15-43页 |
| ·Schr(o|¨)dinger 方程 | 第15-16页 |
| ·分子轨道理论 | 第16-20页 |
| ·闭壳层分子的Hartree-Fock-Roothann 方程 | 第17-18页 |
| ·开壳层分子的Hartree-Fock-Roothann 方程 | 第18-20页 |
| ·电子相关问题 | 第20-28页 |
| ·物理图像 | 第20-21页 |
| ·电子相关能 | 第21-22页 |
| ·微扰方法(M?ller-Plesset Perturbation Method) | 第22-24页 |
| ·组态相互作用方法(Configuration Interaction Method) | 第24-26页 |
| ·耦合簇方法(Coupled Cluster Method) | 第26-28页 |
| ·密度泛函理论(Density Functional Theory) | 第28-30页 |
| ·平面波展开的第一性原理赝势法 | 第30-31页 |
| ·基于紧束缚(Tight-Binding) 势的遗传算法(Genetic Algorithm) | 第31-33页 |
| ·势能面(Potential Energy Surface) | 第33-35页 |
| ·内禀反应坐标理论(Intrinsic Reaction Coordinate Theory) | 第35-36页 |
| ·基组的选择 | 第36-38页 |
| ·振动频率 | 第38-39页 |
| ·计算结果分析 | 第39-43页 |
| ·总能量 | 第39页 |
| ·稳定几何 | 第39-43页 |
| 第三章 Si_n与Ge_n(25 ≤n ≤33) 团簇生长模式的比较 | 第43-69页 |
| ·引言 | 第43-45页 |
| ·计算方法 | 第45-48页 |
| ·结果和讨论 | 第48-64页 |
| ·Si_n 与Ge_n (25 ≤n ≤28) 团簇的最稳定结构 | 第48-50页 |
| ·Si_n 与Ge_n (29 ≤n ≤33) 团簇的低能量结构 | 第50-60页 |
| ·相对稳定性 | 第60-64页 |
| ·本章小结 | 第64-69页 |
| 第四章 Ge_n (2 ≤n ≤33)团簇解离行为的研究 | 第69-85页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·计算方法 | 第70-71页 |
| ·结果和讨论 | 第71-82页 |
| ·几何结构 | 第71-74页 |
| ·稳定性 | 第74-79页 |
| ·解离行为 | 第79-82页 |
| ·本章小结 | 第82-85页 |
| 第五章 Si_(70)团簇的理论研究 | 第85-99页 |
| ·引言 | 第85-87页 |
| ·计算方法 | 第87-88页 |
| ·结果和讨论 | 第88-98页 |
| ·几何结构与相对稳定性 | 第88-92页 |
| ·电子性质 | 第92-95页 |
| ·离子迁移率 | 第95-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 第六章 Ti，Na 与O_2反应机理的理论研究 | 第99-115页 |
| ·引言 | 第99页 |
| ·计算方法 | 第99-100页 |
| ·结果和讨论 | 第100-114页 |
| ·Na 与O_2 反应 | 第100-104页 |
| ·Ti 与O_2 反应 | 第104-108页 |
| ·Ti 与O_2 反应的势能面 | 第108-114页 |
| ·Ti+O_2 的反应势能面 | 第109-111页 |
| ·(Ti+O_2)–的反应势能面 | 第111-114页 |
| ·(Ti+O_2 与(Ti+O_2)–反应势能面的对比 | 第114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-140页 |
| 博士期间发表论文情况 | 第140-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
| 摘要 | 第142-145页 |
| Abstract | 第145-147页 |
