中文摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
·研究背景 | 第9-12页 |
·金属纳米颗粒的研究现状 | 第12-16页 |
·本论文的选题意义及主要研究内容 | 第16-18页 |
第二章 实验过程及测试方法 | 第18-28页 |
·样品的制备及其性质 | 第18页 |
·离子注入过程 | 第18-22页 |
·离子注入原理 | 第18-21页 |
·TR IM 程序模拟 | 第21-22页 |
·热处理过程 | 第22-23页 |
·测试手段及其基本原理 | 第23-28页 |
·紫外- 可见分光光度计( UV-Vis) | 第23页 |
·X 射线衍射仪(XRD) | 第23-26页 |
·原子力显微镜(AFM ) | 第26-28页 |
第三章 溅射理论及其铜离子注入剖面理论计算 | 第28-44页 |
·溅射基本概念 | 第28-30页 |
·线性级联理论模型 | 第30-37页 |
·溅射分类 | 第30-31页 |
·线性级联理论 | 第31-33页 |
·平滑表面的背溅射产额 | 第33-37页 |
·Cu 离子在注入层中的浓度随深度的分布计算 | 第37-44页 |
·射程和投影射程 | 第38-39页 |
·C u 离子注入剖面的理论计算 | 第39-44页 |
第四章 实验结果及讨论 | 第44-62页 |
·紫外-可见分光光度计(UV-Vis ) 结果与分析 | 第44-50页 |
·X射线衍射仪(XRD) 的结果与分析 | 第50-55页 |
·原子力显微镜(AFM) 的结果与分析 | 第55-60页 |
·结果讨论 | 第60-62页 |
第五章 结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |