论文摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-12页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
·纳米材料概述 | 第12-19页 |
·碳纳米材料的研究进展 | 第19-21页 |
·论文的选题及主要研究内容 | 第21-23页 |
参考文献 | 第23-28页 |
第二章 碳纳米管生长的理论基础及制备工艺 | 第28-53页 |
·碳纳米管的制备方法 | 第28-31页 |
·碳纳米管的生长机理 | 第31-35页 |
·合成碳纳米管的催化剂制备工艺 | 第35-38页 |
·碳纳米管的场发射性能测试 | 第38-46页 |
参考文献 | 第46-53页 |
第三章 铜催化剂对碳纳米管生长及性能的影响 | 第53-65页 |
·引言 | 第53页 |
·铜催化剂的制备 | 第53-57页 |
·Cu基碳纳米管的制备及表征 | 第57-60页 |
·碳管场发射性能 | 第60页 |
·结果讨论 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-65页 |
第四章 缓冲层铬膜对铜基CNT膜生长及场发射性能的影响 | 第65-75页 |
·引言 | 第65页 |
·催化剂制备及退火温度对其影响 | 第65-67页 |
·碳纳米管的制备及形貌研究 | 第67-70页 |
·场发射特性研究及讨论 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |
第五章 CUCR合金催化剂对生长大电流CNT膜的影响 | 第75-88页 |
·引言 | 第75页 |
·CuCr合金催化剂的制备 | 第75-76页 |
·CuCr合金催化剂的XPS分析 | 第76-79页 |
·合金催化剂中Cu含量对碳纳米管生长的影响 | 第79-82页 |
·不同CNT的场发射特性研究 | 第82-83页 |
·结果讨论与小结 | 第83-85页 |
参考文献 | 第85-88页 |
第六章 铜基螺旋型CNT膜的制备及场发射性能 | 第88-99页 |
·引言 | 第88页 |
·催化剂及CNT的制备 | 第88-89页 |
·制备工艺对催化剂与CNT形貌的影响 | 第89-95页 |
·本章小结 | 第95-96页 |
参考文献 | 第96-99页 |
第七章 铜基直立碳纳米管的制备及场发射性能研究 | 第99-111页 |
·引言 | 第99-101页 |
·催化剂与CNT的制备 | 第101-102页 |
·催化剂对CNT生长形貌的影响 | 第102-106页 |
·不同形貌CNT的场发射特性研究 | 第106-108页 |
·本章小结 | 第108-109页 |
参考文献 | 第109-111页 |
第八章 结论 | 第111-114页 |
附录 | 第114-117页 |
致谢 | 第117页 |