CMN/CT异质多层介电薄膜界面与性能研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·介电薄膜材料 | 第9-15页 |
| ·介电薄膜材料的应用 | 第9-10页 |
| ·介电薄膜材料理论研究现状 | 第10-13页 |
| ·多层介电薄膜材料研究现状 | 第13-15页 |
| ·薄膜材料的界面 | 第15-19页 |
| ·界面的形态类型 | 第16-17页 |
| ·界面的形成机理 | 第17页 |
| ·界面对薄膜生长及性能的影响 | 第17-19页 |
| ·薄膜的界面处理方式 | 第19页 |
| ·本文研究的内容、目的和意义 | 第19-21页 |
| 第2章 CMN/CT介电薄膜的制备 | 第21-31页 |
| ·实验原料与设备 | 第21-22页 |
| ·实验原料 | 第21页 |
| ·实验设备 | 第21-22页 |
| ·CMN/CT介电薄膜的制备 | 第22-28页 |
| ·前驱体溶液的制备 | 第22-24页 |
| ·界面处理溶液的制备 | 第24页 |
| ·基片的选取及清洗 | 第24-26页 |
| ·CMN/CT介电薄膜的制备 | 第26-28页 |
| ·CMN/CT介电薄膜的结构与性能表征 | 第28-31页 |
| ·物相分析 | 第28页 |
| ·显微结构分析 | 第28-29页 |
| ·介电性能表征 | 第29-31页 |
| 第3章 排布方式对薄膜生长与性能的影响 | 第31-39页 |
| ·首层对CMN/CT薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| ·首层对CMN/CT薄膜相结构的影响 | 第31-32页 |
| ·首层对CMN/CT薄膜微观形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·界面数对CMN/CT薄膜结构的影响 | 第33-36页 |
| ·界面数对CMN/CT薄膜相结构的影响 | 第33-35页 |
| ·界面数对CMN/CT薄膜微观形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·排布方式对CMN/CT薄膜介电性能的影响 | 第36-39页 |
| 第4章 界面处理对薄膜结构与性能的影响 | 第39-52页 |
| ·界面处理方式对CMN/CT薄膜结构与性能的影响 | 第39-43页 |
| ·处理方式对薄膜相结构的影响 | 第39-40页 |
| ·处理方式对薄膜微观形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·处理方式对薄膜介电性能的影响 | 第42-43页 |
| ·界面处理时间对CMN/CT薄膜结构与性能的影响 | 第43-48页 |
| ·处理时间对薄膜相结构的影响 | 第43-44页 |
| ·处理时间对薄膜微观形貌的影响 | 第44-47页 |
| ·处理时间对薄膜介电性能的影响 | 第47-48页 |
| ·处理液浓度对薄膜结构与性能的影响 | 第48-52页 |
| ·处理液浓度对薄膜相结构的影响 | 第48页 |
| ·处理液浓度对薄膜微观形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·处理液浓度对薄膜介电性能的影响 | 第50-52页 |
| 第5章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 硕士期间发表论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
