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金刚石/铜高导热复合材料的制备与研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第1章 绪论第8-22页
    1.1 电子封装材料第8-11页
        1.1.1 电子封装材料简介第8-9页
        1.1.2 电子封装材料的发展及现状第9-11页
    1.2 金刚石/金属基复合材料的研究现状第11-13页
        1.2.1 金刚石/铝复合材料第11-12页
        1.2.2 金刚石/银复合材料第12页
        1.2.3 金刚石/铜复合材料第12-13页
    1.3 金刚石/铜复合材料的制备第13-16页
        1.3.1 粉末冶金法第13-14页
        1.3.2 高温高压法第14页
        1.3.3 熔体浸渗法第14-15页
        1.3.4 放电等离子烧结(SPS)第15-16页
    1.4 金刚石表面改性第16-19页
        1.4.1 金刚石结构及性能第16页
        1.4.2 金刚石表面改性原理第16-17页
        1.4.3 金刚石表面改性方法第17-19页
    1.5 本文的研究内容及意义第19-22页
第2章 实验与表征第22-30页
    2.1 实验原料第22-24页
        2.1.1 金刚石微粉第22页
        2.1.2 铜粉第22-23页
        2.1.3 其他化学药品第23-24页
    2.2 实验仪器与设备第24页
    2.3 实验方案第24-28页
        2.3.1 金刚石表面预处理第25-26页
        2.3.2 金刚石表面化学镀工艺第26-27页
        2.3.3 金刚石/铜复合材料的制备第27-28页
    2.4 材料性能测试与表征第28-30页
        2.4.1 显微形貌分析第28页
        2.4.2 物相及成分分析第28-29页
        2.4.3 密度测试第29页
        2.4.4 热导率测试第29-30页
第3章 金刚石表面化学镀第30-49页
    3.1 金刚石化学镀前预处理第30-36页
        3.1.1 除油第30-31页
        3.1.2 粗化第31-33页
        3.1.3 敏化与活化第33-36页
        3.1.4 还原(解胶)第36页
    3.2 金刚石化学镀铜的工艺研究第36-43页
        3.2.1 活化剂浓度对铜层的影响第37-38页
        3.2.2 镀覆温度对铜层的影响第38-40页
        3.2.3 镀覆时间对化学镀铜的影响第40-42页
        3.2.4 热处理对镀层的影响第42-43页
    3.3 金刚石化学镀镍铜磷合金的工艺研究第43-47页
        3.3.1 敏化次数对镍铜磷合金层的影响第43-44页
        3.3.2 温度对镍铜磷合金层的影响第44-46页
        3.3.3 热处理对镍铜磷合金层的影响第46-47页
    3.4 本章小结第47-49页
第4章 金刚石/铜复合材料的制备与性能研究第49-65页
    4.1 复合材料制备工艺探索第49-53页
        4.1.1 常压烧结制备复合材料第49-52页
        4.1.2 SPS烧结工艺第52-53页
    4.2 金刚石/铜复合材料的显微结构分析第53-60页
        4.2.1 金刚石体积分数对复合材料的显微结构的影响第53-55页
        4.2.2 烧结温度对复合材料的显微结构的影响第55-57页
        4.2.3 金刚石表面改性对复合材料的显微结构的影响第57-60页
    4.3 金刚石/铜复合材料导热性能分析第60-62页
    4.4 本章小结第62-65页
第5章 全文结论第65-67页
参考文献第67-73页
发表论文和参加科研情况说明第73-75页
致谢第75页

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