喷墨打印的成膜均质性研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 咖啡环现象 | 第10-18页 |
| 1.1.1 液滴成膜均质性的研究现状 | 第10-12页 |
| 1.1.2 咖啡环的形成机理 | 第12-13页 |
| 1.1.3 咖啡环效应的影响因素 | 第13-18页 |
| 1.2 印刷电子 | 第18-20页 |
| 1.2.1 印刷电子的研究背景及意义 | 第18-19页 |
| 1.2.2 印刷电子的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.3 本文主要研究工作 | 第20-22页 |
| 第二章 液滴蒸发过程的仿真模拟 | 第22-28页 |
| 2.1 仿真模型 | 第22-25页 |
| 2.1.1 控制方程 | 第22-23页 |
| 2.1.2 边界条件 | 第23页 |
| 2.1.3 流场解析解公式 | 第23-25页 |
| 2.2 仿真结果 | 第25-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 平整固体表面成膜均质性的理论及实验研究 | 第28-48页 |
| 3.1 DLVO力对液体颗粒的作用和影响 | 第28-30页 |
| 3.2 DLVO对球形颗粒的影响机制研究 | 第30-39页 |
| 3.2.1 实验设备及材料 | 第30-31页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第31页 |
| 3.2.3 实验结果 | 第31-35页 |
| 3.2.4 分析讨论 | 第35-39页 |
| 3.3 DLVO对碳纳米管的影响机制研究 | 第39-42页 |
| 3.3.1 实验材料及实验步骤 | 第39-40页 |
| 3.3.2 实验结果 | 第40-41页 |
| 3.3.3 分析讨论 | 第41-42页 |
| 3.4 成膜形态对光谱吸收特性的影响 | 第42-46页 |
| 3.4.1 等离子体激元 | 第42-43页 |
| 3.4.2 仿真模型设定 | 第43-44页 |
| 3.4.3 实验结果及分析 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 多孔表面的成膜机理及特性研究 | 第48-62页 |
| 4.1 实验原理 | 第48-49页 |
| 4.2 实验设备及材料 | 第49-50页 |
| 4.3 实验步骤 | 第50页 |
| 4.4 实验模型 | 第50-53页 |
| 4.5 实验结果及分析 | 第53-58页 |
| 4.5.1 不同孔径的氧化铝衬底上的沉积 | 第53-56页 |
| 4.5.2 不同厚度衬底上的沉积 | 第56-57页 |
| 4.5.3 不同溶剂的液滴在衬底上的沉积 | 第57-58页 |
| 4.6 实验结果与理论计算比对 | 第58-60页 |
| 4.7 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 成膜均质性在发光器件中的引用研究 | 第62-68页 |
| 5.1 单光子源器件简介 | 第62页 |
| 5.2 量子点单光子器件的结构及制备工艺 | 第62-64页 |
| 5.2.1 器件结构 | 第62-63页 |
| 5.2.2 器件制备流程 | 第63-64页 |
| 5.3 温度对液滴成膜形态的机理研究 | 第64-65页 |
| 5.4 实验结果 | 第65-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 作者简介 | 第76页 |
