| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 OTFT概述 | 第10-11页 |
| 1.3 OTFT的应用 | 第11-12页 |
| 1.4 电极注入的发展及研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4.1 金属-半导体界面研究现状 | 第12-13页 |
| 1.4.2 OTFT电极注入研究现状 | 第13-14页 |
| 1.5 本文的主要内容和章节安排 | 第14-16页 |
| 第2章 OTFT器件结构、工作原理和性能参数 | 第16-24页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 OTFT的基本结构 | 第16-17页 |
| 2.3 OTFT工作原理 | 第17-19页 |
| 2.4 OTFT的基本参数 | 第19-21页 |
| 2.5 OTFT的电极注入机制 | 第21-23页 |
| 2.5.1 金属-半导体能级匹配分析 | 第22页 |
| 2.5.2 修饰层对电极注入效应的影响 | 第22-23页 |
| 2.6 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 三氧化钼电极修饰层的研究 | 第24-36页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 制备OTFT所用到的设备及制备流程 | 第24-29页 |
| 3.2.1 仪器设备与试剂 | 第24-27页 |
| 3.2.2 OTFT器件制备流程 | 第27-28页 |
| 3.2.3 OTFT器件的测试 | 第28-29页 |
| 3.3 制备Mo O3对称修饰层OTFT器件 | 第29-33页 |
| 3.3.1 OTFT器件的制备 | 第30-31页 |
| 3.3.2 测试结果分析 | 第31-33页 |
| 3.4 制备Mo O3单极修饰层OTFT器件 | 第33-35页 |
| 3.4.1 实验设计 | 第33页 |
| 3.4.2 OTFT器件的制备 | 第33-34页 |
| 3.4.3 测试结果分析 | 第34-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 Li F电极修饰层的研究 | 第36-44页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 探究Li F作修饰层的最佳厚度 | 第36-39页 |
| 4.2.1 实验设计 | 第36页 |
| 4.2.2 OTFT器件制备 | 第36-37页 |
| 4.2.3 测试结果分析 | 第37-39页 |
| 4.3 Li F非对称修饰层对OTFT性能的影响 | 第39-42页 |
| 4.3.1 实验设计 | 第40页 |
| 4.3.2 Li F电极修饰层OTFT的制备 | 第40-41页 |
| 4.3.3 测试结果分析 | 第41-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 复合电极对OTFT的影响 | 第44-53页 |
| 5.1 引言 | 第44页 |
| 5.2 Ag/Cu S、Cu/Cu S复合电极OTFT器件的制备 | 第44-47页 |
| 5.2.1 实验设计 | 第44-45页 |
| 5.2.2 OTFT器件制备 | 第45页 |
| 5.2.3 测试结果与分析 | 第45-47页 |
| 5.3 非对称复合电极OTFT器件的制备 | 第47-49页 |
| 5.3.1 实验设计 | 第47页 |
| 5.3.2 Cu/Cu S复合源电极OTFT的制备 | 第47页 |
| 5.3.3 结果与分析 | 第47-49页 |
| 5.4 Cu/Al合金电极对OTFT器件性能的影响 | 第49-51页 |
| 5.4.1 实验设计 | 第49页 |
| 5.4.2 Cu/Al合金电极OTFT器件的制备 | 第49-50页 |
| 5.4.3 结果与分析 | 第50-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
