| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·阻垢剂发展概述 | 第9-11页 |
| ·低温多效蒸馏海水淡化工艺简介 | 第11-12页 |
| ·阻垢剂在热法海水淡化中的应用 | 第12-14页 |
| ·阻垢剂评价方法概述及存在问题 | 第14-16页 |
| ·静态阻垢法 | 第14页 |
| ·鼓泡法 | 第14-15页 |
| ·临界pH值法 | 第15页 |
| ·电导法 | 第15页 |
| ·恒定组分分析技术 | 第15页 |
| ·电子显微镜和X射线衍射技术 | 第15-16页 |
| ·阻垢机理研究进展 | 第16-18页 |
| ·立题的意义、研究内容及研究思路 | 第18-20页 |
| ·立题的意义 | 第18页 |
| ·研究内容介绍 | 第18页 |
| ·研究思路的确定 | 第18-20页 |
| 2 阻垢剂的选择、合成与配方设计 | 第20-35页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验 | 第20-27页 |
| ·试剂与仪器 | 第20-21页 |
| ·磺化苯乙烯马来酸酐共聚物的合成 | 第21-23页 |
| ·低分子量HPMA的合成 | 第23-24页 |
| ·三元配方优化方法 | 第24-25页 |
| ·阻垢性能的测定-碳酸钙沉积法 | 第25-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-33页 |
| ·HEDP、HPMA、SSMA三元复配 | 第27-28页 |
| ·HEDP、HPMA、PAA三元复配 | 第28页 |
| ·HEDP、HPMA、PAA三元复配的配方优化 | 第28-29页 |
| ·引发剂用量对合成HPMA阻垢性能的影响 | 第29-30页 |
| ·合成HPMA分子量表征 | 第30-31页 |
| ·低分子量HPMA红外光谱表征 | 第31页 |
| ·低分子量HPMA、HEDP、PAA三元复配配方优化 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 3 阻垢性能研究 | 第35-54页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·试剂、材料与仪器 | 第35-37页 |
| ·实验方法 | 第37-38页 |
| ·阻垢性能的测定-铜管沉积法 | 第37页 |
| ·碳酸钙沉积法 | 第37页 |
| ·垢样微观形貌分析 | 第37页 |
| ·垢样晶相分析 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-53页 |
| ·配方1阻垢性能评价及垢样形貌分析 | 第38-40页 |
| ·配方2阻垢性能评价及垢样形貌分析 | 第40-42页 |
| ·配方3阻垢性能评价及垢样形貌分析 | 第42-44页 |
| ·配方4阻垢性能评价及垢样形貌分析 | 第44-46页 |
| ·配方5阻垢性能评价及垢样形貌分析 | 第46-49页 |
| ·温度对沉积抑制率的影响 | 第49-50页 |
| ·阻垢剂用量对配方4阻垢性能的影响 | 第50-51页 |
| ·阻垢剂用量对配方5阻垢性能的影响 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 4 阻垢机理探讨 | 第54-67页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验 | 第54-56页 |
| ·试剂、材料与仪器 | 第54-55页 |
| ·方法与原理 | 第55-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-65页 |
| ·增溶作用 | 第56-58页 |
| ·阻垢剂对垢样微观形貌的影响 | 第58-60页 |
| ·阻垢剂对垢样晶相组成的影响 | 第60-63页 |
| ·阻垢剂对垢样粒度分布的影响 | 第63-64页 |
| ·铜片垢样生长实验 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 5 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 附录 | 第75页 |