| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第15-36页 |
| 1.1 课题来源及研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| 1.2 镁合金的特性及其航天器应用 | 第16-19页 |
| 1.2.1 镁合金特性 | 第16-17页 |
| 1.2.2 镁合金在航天器中的应用 | 第17-19页 |
| 1.3 热控膜层研究综述 | 第19-23页 |
| 1.3.1 热控膜层温控原理 | 第19-20页 |
| 1.3.2 热辐射相关理论 | 第20-22页 |
| 1.3.3 常见低吸辐比热控膜层 | 第22-23页 |
| 1.4 镁合金表面热控膜层制备技术 | 第23-31页 |
| 1.4.1 阳极氧化 | 第23-24页 |
| 1.4.2 热喷涂 | 第24-25页 |
| 1.4.3 有机涂敷 | 第25-26页 |
| 1.4.4 液相等离子体电解氧化技术 | 第26-31页 |
| 1.5 空间紫外辐照效应及防护技术 | 第31-35页 |
| 1.5.1 空间紫外辐照损伤作用 | 第31-33页 |
| 1.5.2 紫外辐照防护技术研究 | 第33-35页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第35-36页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第36-43页 |
| 2.1 实验材料和试剂 | 第36-37页 |
| 2.2 实验设备和工艺流程 | 第37-40页 |
| 2.2.1 实验设备与仪器 | 第37页 |
| 2.2.2 液相等离子体电解氧化装置与制备流程 | 第37-38页 |
| 2.2.3 磁控溅射装置与工艺流程 | 第38-39页 |
| 2.2.4 空间紫外辐照模拟试验及其参数 | 第39-40页 |
| 2.3 膜层结构组成和性能测试方法 | 第40-43页 |
| 2.3.1 微观形貌分析 | 第40页 |
| 2.3.2 物相组成分析 | 第40页 |
| 2.3.3 红外吸收光谱分析 | 第40页 |
| 2.3.4 厚度和粗糙度测试 | 第40-41页 |
| 2.3.5 质量损失测试 | 第41页 |
| 2.3.6 电化学腐蚀测试 | 第41页 |
| 2.3.7 结合强度测试 | 第41-42页 |
| 2.3.8 热控性能测试 | 第42-43页 |
| 第3章 镁合金表面低吸辐比热控膜层的构筑 | 第43-89页 |
| 3.1 镁合金表面低吸辐比热控膜层的理论设计 | 第43-53页 |
| 3.1.1 掺杂相M_xO_y的筛选 | 第43-46页 |
| 3.1.2 双组元复合材料热控性能理论计算 | 第46-49页 |
| 3.1.3 膜层结构因素理论分析 | 第49-53页 |
| 3.2 电解液体系的筛选与优化 | 第53-62页 |
| 3.2.1 电解液的筛选 | 第54-55页 |
| 3.2.2 电解液体系的确定 | 第55-61页 |
| 3.2.3 电解液组分浓度的优化 | 第61-62页 |
| 3.3 电流密度对MgO-ZrO_2膜层结构和性能的影响 | 第62-68页 |
| 3.3.1 电流密度对氧化过程中电压的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.2 电流密度对膜层微观形貌的影响 | 第63-66页 |
| 3.3.3 电流密度对膜层相组成的影响 | 第66-67页 |
| 3.3.4 电流密度对膜层热控性能的影响 | 第67-68页 |
| 3.4 电流频率对MgO-ZrO_2膜层结构和性能的影响 | 第68-74页 |
| 3.4.1 电流频率对氧化过程中电压的影响 | 第68-69页 |
| 3.4.2 电流频率对膜层微观形貌的影响 | 第69-72页 |
| 3.4.3 电流频率对膜层相组成的影响 | 第72页 |
| 3.4.4 电流频率对膜层热控性能的影响 | 第72-74页 |
| 3.5 电源占空比对MgO-ZrO_2膜层结构和性能的影响 | 第74-79页 |
| 3.5.1 电源占空比对氧化过程中电压的影响 | 第74页 |
| 3.5.2 电源占空比对膜层微观形貌的影响 | 第74-77页 |
| 3.5.3 电源占空比对膜层相组成的影响 | 第77页 |
| 3.5.4 电源占空比对膜层热控性能的影响 | 第77-79页 |
| 3.6 氧化时间对MgO-ZrO_2膜层结构和性能的影响 | 第79-83页 |
| 3.6.1 氧化时间对膜层微观形貌的影响 | 第79-81页 |
| 3.6.2 氧化时间对膜层相组成的影响 | 第81-82页 |
| 3.6.3 氧化时间对膜层热控性能的影响 | 第82-83页 |
| 3.7 镁合金表面MgO-ZrO_2膜层原位生长机制探讨 | 第83-87页 |
| 3.8 本章小结 | 第87-89页 |
| 第4章 镁合金表面TiO_2/MgO-ZrO_2复合膜层的制备 | 第89-116页 |
| 4.1 紫外屏蔽材料筛选及理论分析 | 第89-92页 |
| 4.1.1 紫外屏蔽材料筛选 | 第89-90页 |
| 4.1.2 镁合金热控膜层紫外吸收的理论探讨 | 第90-92页 |
| 4.2 镁合金表面TiO_2/MgO-ZrO_2复合膜层的制备 | 第92-110页 |
| 4.2.1 溅射压强对复合膜层结构和性能的影响 | 第92-97页 |
| 4.2.2 溅射功率对复合膜层结构和性能的影响 | 第97-100页 |
| 4.2.3 氧氩流量比对复合膜层结构和性能的影响 | 第100-103页 |
| 4.2.4 基底温度对复合膜层结构和性能的影响 | 第103-107页 |
| 4.2.5 溅射时间对复合膜层结构和性能的影响 | 第107-110页 |
| 4.3 热控膜层热辐射机理探讨 | 第110-114页 |
| 4.4 本章小结 | 第114-116页 |
| 第5章 镁合金表面热控膜层空间紫外效应研究 | 第116-139页 |
| 5.1 紫外辐照对热控膜层结构和性能的影响 | 第116-121页 |
| 5.1.1 紫外辐照对膜层热控性能的影响 | 第116-117页 |
| 5.1.2 紫外辐照对膜层表面状况的影响 | 第117-120页 |
| 5.1.3 紫外辐照对膜层质量损失率的影响 | 第120-121页 |
| 5.2 镁合金表面热控膜层紫外辐照损伤效应分析 | 第121-128页 |
| 5.2.1 紫外辐照MgO-ZrO_2热控膜层电子能谱分析 | 第121-124页 |
| 5.2.2 紫外辐照TiO_2/MgO-ZrO_2复合膜层电子能谱分析 | 第124-128页 |
| 5.3 镁合金表面热控膜层紫外辐照损伤机制 | 第128-136页 |
| 5.3.1 紫外辐照对热控膜层的作用机理 | 第128-130页 |
| 5.3.2 热控膜层紫外辐照损伤数理模型推导 | 第130-131页 |
| 5.3.3 热控膜层结构组成影响分析 | 第131-136页 |
| 5.4 镁合金表面热控膜层寿命预测模型 | 第136-138页 |
| 5.5 本章小结 | 第138-139页 |
| 结论 | 第139-140页 |
| 创新点 | 第140页 |
| 展望 | 第140-141页 |
| 参考文献 | 第141-156页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第156-159页 |
| 致谢 | 第159-160页 |
| 个人简历 | 第160页 |
