| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 氧化亚铜的基本性质 | 第9页 |
| 1.2 氧化亚铜的应用现状 | 第9-10页 |
| 1.3 氧化亚铜薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| 1.4 氧化亚铜薄膜的导电类型调控及其研究现状 | 第12-14页 |
| 1.5 氧化亚铜薄膜的导电机制 | 第14-15页 |
| 1.6 本论文的研究目的和研究思路 | 第15-17页 |
| 第二章 实验方法和设备 | 第17-23页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验所用试剂 | 第17页 |
| 2.1.2 实验所用仪器 | 第17-18页 |
| 2.2 现代物理表征方法 | 第18页 |
| 2.2.1 结构和组成表征 | 第18页 |
| 2.2.2 形貌表征 | 第18页 |
| 2.2.3 吸收光谱和带隙表征 | 第18页 |
| 2.3 光电化学性能测试 | 第18-19页 |
| 2.3.1 光电化学测试系统 | 第18-19页 |
| 2.3.2 零偏压下的光电流测试 | 第19页 |
| 2.4 电化学测试 | 第19-23页 |
| 2.4.1 载流子密度及平带电势测试 | 第19-20页 |
| 2.4.2 线性扫描伏安测试 | 第20页 |
| 2.4.3 开路电势测试 | 第20页 |
| 2.4.4 电化学阻抗谱测试 | 第20-23页 |
| 第三章 氧化亚铜薄膜的导电性能调控及机理 | 第23-41页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 实验 | 第24页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第24-40页 |
| 3.3.1 Cu_2O薄膜的晶相分析和组成分析 | 第24-26页 |
| 3.3.2 Cu_2O薄膜的形貌分析 | 第26-28页 |
| 3.3.3 Cu_2O薄膜的吸收光谱和带隙计算 | 第28-30页 |
| 3.3.4 Cu_2O薄膜的光电化学性能 | 第30-33页 |
| 3.3.5 Cu_2O薄膜的生长机制 | 第33-36页 |
| 3.3.6 KNO_3调控Cu_2O薄膜导电类型的机制 | 第36-40页 |
| 3.4 小结 | 第40-41页 |
| 第四章 n型和p型氧化亚铜薄膜的导电机制研究 | 第41-61页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 实验 | 第41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-60页 |
| 4.3.1 Cu_2O薄膜的晶相分析 | 第41-43页 |
| 4.3.2 Cu_2O薄膜的形貌分析 | 第43-46页 |
| 4.3.3 反应时间对Cu_2O薄膜导电类型的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.4 电化学阻抗谱测试及分析 | 第48-60页 |
| 4.4 Cu_2O的导电机制分析 | 第60页 |
| 4.5 小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |