摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-22页 |
1.1 引言 | 第8页 |
1.2 低辐射玻璃 | 第8-15页 |
1.2.1 低辐射玻璃节能原理 | 第9-11页 |
1.2.2 低辐射玻璃的性能特点 | 第11-12页 |
1.2.3 低辐射玻璃的种类 | 第12-13页 |
1.2.4 薄膜的生长过程 | 第13-15页 |
1.3 低辐射玻璃的制备 | 第15-19页 |
1.3.1 磁控溅射法 | 第15-17页 |
1.3.2 化学气相沉积法 | 第17页 |
1.3.3 真空蒸镀法 | 第17-18页 |
1.3.4 喷雾热解法 | 第18-19页 |
1.4 低辐射玻璃的研究现状 | 第19-21页 |
1.4.1 低辐射玻璃的国外研究现状 | 第19-20页 |
1.4.2 低辐射玻璃的国内研究现状 | 第20页 |
1.4.3 低辐射玻璃研究存在的问题 | 第20-21页 |
1.5 本课题的研究目的及意义 | 第21-22页 |
2 实验 | 第22-26页 |
2.1 实验材料与设备 | 第22页 |
2.2 低辐射薄膜的制备 | 第22-24页 |
2.2.1 基片预处理 | 第22-23页 |
2.2.2 薄膜的制备过程 | 第23-24页 |
2.3 薄膜的性能检测 | 第24-26页 |
3 NbSiN/Ag/Cu低辐射薄膜的制备及性能研究 | 第26-48页 |
3.1 功能层银薄膜制备及性能研究 | 第26-32页 |
3.1.1 溅射功率对银薄膜性能的影响 | 第26-28页 |
3.1.2 真空室压强及氩气流量对银薄膜性能的影响 | 第28-31页 |
3.1.3 靶基间距对银薄膜性能的影响 | 第31-32页 |
3.2 种子层铜薄膜制备及性能研究 | 第32-36页 |
3.3 保护层NbSiN薄膜制备及性能研究 | 第36-43页 |
3.3.1 硅靶功率对NbSiN薄膜性能的影响 | 第37-38页 |
3.3.2 铌靶功率对NbSiN薄膜性能的影响 | 第38-39页 |
3.3.3 氮气流量对NbSiN薄膜性能的影响 | 第39-41页 |
3.3.4 溅射时间对NbSiN薄膜性能的影响 | 第41-43页 |
3.4 NbSiN/Ag/Cu/Glass低辐射薄膜的性能 | 第43-47页 |
3.4.1 NbSiN/Ag/Cu/Glass低辐射薄膜的可见光透过率 | 第43-44页 |
3.4.2 NbSiN/Ag/Cu/Glass低辐射薄膜的远红外反射率 | 第44-46页 |
3.4.3 NbSiN/Ag/Cu/Glass低辐射薄膜的抗腐蚀性能 | 第46-47页 |
3.5 小结 | 第47-48页 |
4 结论 | 第48-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-52页 |