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基于氧化铝模板的半导体纳米线阵列制备及性能研究

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-21页
    1.1 研究背景及意义第10-11页
    1.2 国内外研究现状第11-19页
        1.2.1 纳米多孔模板的研究现状第11-14页
        1.2.2 纳米多孔模板制备纳米材料的研究现状第14-19页
    1.3 本论文研究目的与主要内容第19-21页
第二章 实验基本原理与器材第21-33页
    2.1 阳极氧化铝模板的结构和形成机理第21-26页
        2.1.1 阳极氧化铝模板的结构第21-23页
        2.1.2 阳极氧化铝模板的形成机理第23-26页
    2.2 模板电沉积法制备一维纳米材料的理论基础第26-30页
        2.2.1 电沉积的基本理论第26-28页
        2.2.2 电沉积制备一维纳米材料的基本方法第28-30页
    2.3 实验器材第30-32页
        2.3.1 实验设备与试剂第30-31页
        2.3.2 测量仪器第31-32页
    2.4 本章小结第32-33页
第三章 阳极氧化铝模板的制备与研究第33-43页
    3.1 阳极氧化铝模板的影响因素概述第33-34页
    3.2 阳极氧化铝模板的制备流程第34-38页
    3.3 阳极氧化铝模板相关制备工艺的的研究第38-41页
        3.3.1 电化学抛光对阳极氧化铝模板的影响第38-39页
        3.3.2 阳极氧化铝模板厚度的控制第39-40页
        3.3.3 去阻挡层和扩孔时间对阳极氧化铝模板的影响第40-41页
    3.4 本章小结第41-43页
第四章 Bi-Te纳米线阵列的制备及性能表征第43-57页
    4.1 Bi-Te纳米线阵列的制备第43-49页
        4.1.1 不同配比的电解液对Bi-Te纳米线的影响第43-46页
        4.1.2 不同沉积时间对Bi-Te纳米线的影响第46-48页
        4.1.3 不同孔深的阳极氧化铝模板沉积Bi-Te纳米线第48-49页
    4.2 溶解阳极氧化铝模板工艺研究第49-52页
        4.2.1 不同溶解液对阳极氧化铝模板的影响第49-50页
        4.2.2 不同溶解时间对阳极氧化铝模板的影响第50-51页
        4.2.3 表面生长了BiTe纳米线的阳极氧化铝模板溶解第51-52页
    4.3 Bi-Te纳米线阵列的性能表征第52-56页
        4.3.1 莫特-肖特基(mott-schottky)曲线图第52-53页
        4.3.2 红外性能测试及仿真结果对比第53-56页
    4.4 本章小结第56-57页
第五章 结论第57-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-64页
攻读硕士学位期间取得的成果第64页

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