| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-19页 |
| 1.2.1 纳米多孔模板的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 纳米多孔模板制备纳米材料的研究现状 | 第14-19页 |
| 1.3 本论文研究目的与主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验基本原理与器材 | 第21-33页 |
| 2.1 阳极氧化铝模板的结构和形成机理 | 第21-26页 |
| 2.1.1 阳极氧化铝模板的结构 | 第21-23页 |
| 2.1.2 阳极氧化铝模板的形成机理 | 第23-26页 |
| 2.2 模板电沉积法制备一维纳米材料的理论基础 | 第26-30页 |
| 2.2.1 电沉积的基本理论 | 第26-28页 |
| 2.2.2 电沉积制备一维纳米材料的基本方法 | 第28-30页 |
| 2.3 实验器材 | 第30-32页 |
| 2.3.1 实验设备与试剂 | 第30-31页 |
| 2.3.2 测量仪器 | 第31-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 阳极氧化铝模板的制备与研究 | 第33-43页 |
| 3.1 阳极氧化铝模板的影响因素概述 | 第33-34页 |
| 3.2 阳极氧化铝模板的制备流程 | 第34-38页 |
| 3.3 阳极氧化铝模板相关制备工艺的的研究 | 第38-41页 |
| 3.3.1 电化学抛光对阳极氧化铝模板的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.2 阳极氧化铝模板厚度的控制 | 第39-40页 |
| 3.3.3 去阻挡层和扩孔时间对阳极氧化铝模板的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 Bi-Te纳米线阵列的制备及性能表征 | 第43-57页 |
| 4.1 Bi-Te纳米线阵列的制备 | 第43-49页 |
| 4.1.1 不同配比的电解液对Bi-Te纳米线的影响 | 第43-46页 |
| 4.1.2 不同沉积时间对Bi-Te纳米线的影响 | 第46-48页 |
| 4.1.3 不同孔深的阳极氧化铝模板沉积Bi-Te纳米线 | 第48-49页 |
| 4.2 溶解阳极氧化铝模板工艺研究 | 第49-52页 |
| 4.2.1 不同溶解液对阳极氧化铝模板的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.2 不同溶解时间对阳极氧化铝模板的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.3 表面生长了BiTe纳米线的阳极氧化铝模板溶解 | 第51-52页 |
| 4.3 Bi-Te纳米线阵列的性能表征 | 第52-56页 |
| 4.3.1 莫特-肖特基(mott-schottky)曲线图 | 第52-53页 |
| 4.3.2 红外性能测试及仿真结果对比 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第64页 |
