| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 汽油深度脱硫的意义 | 第12页 |
| 1.2 汽油中含硫化合物的种类 | 第12-13页 |
| 1.3 燃料油脱硫技术 | 第13-17页 |
| 1.3.1 加氢脱硫技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 萃取脱硫技术 | 第14-15页 |
| 1.3.3 吸附脱硫技术 | 第15-16页 |
| 1.3.4 生物脱硫技术 | 第16-17页 |
| 1.3.5 氧化脱硫技术 | 第17页 |
| 1.4 半导体光催化氧化概述 | 第17-23页 |
| 1.4.1 半导体催化剂性质 | 第18页 |
| 1.4.2 半导体光催化机理 | 第18-19页 |
| 1.4.3 二氧化钛光催化剂的改性 | 第19-21页 |
| 1.4.4 二氧化钛光催化剂的负载 | 第21-23页 |
| 1.5 金属酞菁光敏剂 | 第23-24页 |
| 1.6 研究目的、意义及内容 | 第24-26页 |
| 1.6.1 研究目的和意义 | 第24页 |
| 1.6.2 本论文研究的主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-34页 |
| 2.1 实验原料与试剂 | 第26-27页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第27页 |
| 2.3 测试仪器及表征方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 X射线粉末衍射分析(XRD) | 第27页 |
| 2.3.2 高效液相色谱(HPLC) | 第27页 |
| 2.3.3 低温N_2吸附分析(BET方法) | 第27-28页 |
| 2.3.4 紫外-可见光漫反射分析(UV-vis) | 第28页 |
| 2.3.5 气相色谱-质谱联用仪(GC-MS) | 第28页 |
| 2.3.6 傅里叶红外分析(FT-IR) | 第28页 |
| 2.3.7 扫描电镜分析(SEM) | 第28页 |
| 2.3.8 CEL-HXUV300氙灯光源 | 第28-29页 |
| 2.4 模型油的配制 | 第29页 |
| 2.4.1 二苯并噻吩模型油的配制 | 第29页 |
| 2.4.2 苯并噻吩模型油的配制 | 第29页 |
| 2.4.3 噻吩模型油的配制 | 第29页 |
| 2.5 标准曲线的测定 | 第29-34页 |
| 2.5.1 二苯并噻吩-正辛烷标准曲线的测定 | 第29-31页 |
| 2.5.2 苯并噻吩-正辛烷标准曲线的测定 | 第31-32页 |
| 2.5.3 噻吩-正辛烷标准曲线的测定 | 第32-34页 |
| 第三章 DCQ敏化二氧化钛的制备及其光催化脱硫性能研究 | 第34-47页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 TiO_2@SBA-15、DCQ-TiO_2@SBA-15的制备与表征 | 第34-40页 |
| 3.2.1 TiO_2@SBA-15、DCQ-TiO_2@SBA-15的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.2 BET表征 | 第35-36页 |
| 3.2.3 XRD表征 | 第36-38页 |
| 3.2.4 FT-IR表征 | 第38-39页 |
| 3.2.5 UV-vis表征 | 第39-40页 |
| 3.3 DCQ-X%TiO_2@SBA-15用于光催化氧化脱硫性能研究 | 第40-45页 |
| 3.3.1 不同催化体系对光催化氧化脱硫的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 催化剂用量对光催化氧化脱硫的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 TiO_2负载量对光催化氧化脱硫的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4 反应时间对光催化氧化脱硫的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.5 氧硫摩尔比对光催化氧化脱硫的影响 | 第44页 |
| 3.3.6 含硫化合物的种类对光催化氧化脱硫的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.7 催化剂的循环使用性能研究 | 第45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 酞菁敏化二氧化钛催化剂的制备及其光催化脱硫性能研究 | 第47-66页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 金属酞菁的制备与表征 | 第47-52页 |
| 4.2.1 无取代金属酞菁的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.2 四羧基取代金属酞菁的制备 | 第48-49页 |
| 4.2.3 四硝基取代金属酞菁的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.4 四氨基取代金属酞菁的制备 | 第50-51页 |
| 4.2.5 金属酞菁的UV-vis表征 | 第51-52页 |
| 4.3 酞菁敏化TiO_2的制备与表征 | 第52-56页 |
| 4.3.1 酞菁敏化TiO_2的制备 | 第52-53页 |
| 4.3.2 酞菁敏化TiO_2的XRD表征 | 第53页 |
| 4.3.3 金属酞菁敏化二氧化钛的SEM表征 | 第53-54页 |
| 4.3.4 金属酞菁敏化二氧化钛的UV-vis表征 | 第54-56页 |
| 4.4 金属酞菁敏化二氧化钛的光催化氧化脱硫性能研究 | 第56-64页 |
| 4.4.1 催化剂用量对光催化氧化脱硫的影响 | 第57页 |
| 4.4.2 敏化剂负载量对光催化氧化脱硫的影响 | 第57-58页 |
| 4.4.3 氧硫摩尔比对光催化氧化脱硫的影响 | 第58-59页 |
| 4.4.4 反应时间对光催化氧化脱硫的影响 | 第59-60页 |
| 4.4.5 酞菁金属中心对光催化氧化脱硫的影响 | 第60页 |
| 4.4.6 不同取代基对光催化氧化脱硫的影响 | 第60-61页 |
| 4.4.7 含硫化合物种类对光催化氧化脱硫的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.8 光催化剂稳定性研究 | 第62-63页 |
| 4.4.9 光催化氧化脱硫产物分析 | 第63-64页 |
| 4.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附件 | 第77页 |
