镁锂合金微弧氧化涂层制备及热控性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 课题研究的目的及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 镁锂合金概述 | 第11-13页 |
| 1.2.1 镁锂合金物理特性 | 第11-12页 |
| 1.2.2 镁锂合金的发展 | 第12页 |
| 1.2.3 镁锂合金的表面改性 | 第12-13页 |
| 1.3 镁锂合金微弧氧化技术研究 | 第13-16页 |
| 1.3.1 微弧氧化概述 | 第13-15页 |
| 1.3.2 微弧氧化电源模式及工艺条件 | 第15页 |
| 1.3.3 微弧氧化在镁锂合金上的应用 | 第15-16页 |
| 1.4 热控涂层研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4.1 热控涂层概述 | 第16-17页 |
| 1.4.2 微弧氧化在热控涂层的应用 | 第17页 |
| 1.5 微弧氧化光谱研究现状 | 第17-18页 |
| 1.6 本课题研究的主要内容 | 第18-20页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第20-25页 |
| 2.1 研究材料和试样前处理 | 第20-21页 |
| 2.1.1 研究材料 | 第20页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第20页 |
| 2.1.3 试件前处理 | 第20-21页 |
| 2.2 实验装置和流程 | 第21-22页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第21-22页 |
| 2.2.2 实验流程 | 第22页 |
| 2.3 微弧氧化陶瓷涂层的表征 | 第22-23页 |
| 2.3.1 涂层粗糙度表征 | 第22页 |
| 2.3.2 涂层厚度表征 | 第22页 |
| 2.3.3 涂层形貌表征 | 第22-23页 |
| 2.3.4 涂层成分的表征 | 第23页 |
| 2.4 微弧氧化陶瓷涂层的性能测试 | 第23-25页 |
| 2.4.1 涂层发射率测试 | 第23页 |
| 2.4.2 涂层吸收率测试 | 第23-25页 |
| 第3章 硅酸盐体系微弧氧化热控涂层制备和表征 | 第25-43页 |
| 3.1 电源频率对涂层的影响 | 第25-29页 |
| 3.1.1 电源频率对槽压曲线的影响 | 第25-26页 |
| 3.1.2 电源频率对厚度/粗糙度影响 | 第26页 |
| 3.1.3 电源频率对表面形貌的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.4 电源频率对相组成的的影响 | 第27-28页 |
| 3.1.5 电源频率对热控性能的影响 | 第28-29页 |
| 3.2 反应时间对涂层的影响 | 第29-33页 |
| 3.2.1 反应时间对厚度/粗糙度的影响 | 第29页 |
| 3.2.2 反应时间对表面形貌的影响 | 第29-32页 |
| 3.2.3 反应时间对相组成的影响 | 第32页 |
| 3.2.4 反应时间对热控性能的影响 | 第32-33页 |
| 3.3 电流密度对涂层的影响 | 第33-38页 |
| 3.3.1 电流密度对槽压曲线的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.2 电流密度对厚度/粗糙度影响 | 第34页 |
| 3.3.3 电流密度对表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.4 电流密度对相组成的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.5 电流密度对热控性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.4 电解液浓度对涂层的影响 | 第38-42页 |
| 3.4.1 电解液浓度为槽压曲线的影响 | 第38页 |
| 3.4.2 电解液浓度对厚度/粗糙度的影响 | 第38-39页 |
| 3.4.3 电解液浓度对表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.4.4 电解液浓度对相组成的影响 | 第41页 |
| 3.4.5 电解液浓度对热控性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 磷酸盐体系微弧氧化热控涂层制备和表征 | 第43-64页 |
| 4.1 电源频率对涂层的影响 | 第43-47页 |
| 4.1.1 电源频率对槽压的影响 | 第43-44页 |
| 4.1.2 电源频率对厚度/粗糙度的影响 | 第44-45页 |
| 4.1.3 电源频率对表面形貌的影响 | 第45页 |
| 4.1.4 电源频率对相组成的影响 | 第45-46页 |
| 4.1.5 电源频率对热控性能的影响 | 第46-47页 |
| 4.2 反应时间对涂层的影响 | 第47-55页 |
| 4.2.1 反应时间对厚度/粗糙度的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.2 反应时间对表面形貌影响 | 第48-50页 |
| 4.2.3 反应时间对相组成的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.4 反应时间对截面形貌影响 | 第52-54页 |
| 4.2.5 反应时间对热控性能的影响 | 第54-55页 |
| 4.3 电流密度对涂层的影响 | 第55-58页 |
| 4.3.1 电流密度对槽压曲线的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.2 电流密度对厚度的影响 | 第56页 |
| 4.3.3 电流密度对表面形貌的影响 | 第56-58页 |
| 4.3.4 电流密度对相组成的影响 | 第58页 |
| 4.3.5 电流密度对热控性能的影响 | 第58页 |
| 4.4 电解液浓度对涂层的影响 | 第58-62页 |
| 4.4.1 电解液浓度对槽压曲线的影响 | 第59页 |
| 4.4.2 电解液浓度对厚度的影响 | 第59-60页 |
| 4.4.3 电解液浓度对表面形貌的影响 | 第60-61页 |
| 4.4.4 电解液浓度对相组成的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.5 电解液浓度对热控性能的影响 | 第62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 镁锂合金微弧氧化光谱及反应过程分析 | 第64-80页 |
| 5.1 硅酸盐体系微弧氧化光谱分析 | 第64-71页 |
| 5.1.1 微弧氧化光谱特性 | 第64-66页 |
| 5.1.2 不同电流密度对光谱的影响 | 第66-69页 |
| 5.1.3 硅酸盐体系微弧氧化反应过程分析 | 第69-71页 |
| 5.2 磷酸盐体系微弧氧化光谱分析 | 第71-78页 |
| 5.2.1 微弧氧化光谱特性 | 第71-73页 |
| 5.2.2 不同电源频率对光谱的影响 | 第73-75页 |
| 5.2.3 磷酸盐体系微弧氧化反应过程分析 | 第75-77页 |
| 5.2.4 不同锂含量对微弧氧化光谱的影响 | 第77-78页 |
| 5.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
