| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究的背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第10-13页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术发展简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 微弧氧化的反应过程 | 第11-12页 |
| 1.2.3 电参数对微弧氧化的影响 | 第12-13页 |
| 1.2.4 微弧氧化技术存在的问题 | 第13页 |
| 1.3 微弧氧化电源技术 | 第13-15页 |
| 1.3.1 微弧氧化电源的发展 | 第13-14页 |
| 1.3.2 微弧氧化电源研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4 电磁场在表面处理领域中的应用 | 第15-16页 |
| 1.5 主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 试验装置的设计 | 第17-29页 |
| 2.1 微弧氧化脉冲电源的负载特性 | 第17-19页 |
| 2.2 双极性微弧氧化电源的设计 | 第19-27页 |
| 2.2.1 主电路的设计 | 第20-21页 |
| 2.2.2 控制系统回路的设计 | 第21-25页 |
| 2.2.3 不同波形控制方式的实现 | 第25-27页 |
| 2.3 磁场发生装置的设计 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 试验准备及试验方案设计 | 第29-35页 |
| 3.1 试验条件 | 第29-30页 |
| 3.1.1 试验材料和试剂 | 第29页 |
| 3.1.2 试验设备 | 第29-30页 |
| 3.2 试验方案设计 | 第30-31页 |
| 3.2.1 不同电流波形控制方式对微弧氧化的影响试验 | 第31页 |
| 3.2.2 电磁场对微弧氧化的影响试验 | 第31页 |
| 3.3 微弧氧化工艺流程 | 第31-32页 |
| 3.4 测试方法 | 第32-33页 |
| 3.4.1 微弧氧化膜层厚度测量 | 第32页 |
| 3.4.2 微弧氧化膜层表面粗糙度的测量 | 第32页 |
| 3.4.3 微弧氧化膜层电化学性能测试 | 第32-33页 |
| 3.4.4 微弧氧化膜层微观形貌及元素含量测量 | 第33页 |
| 3.4.5 微弧氧化膜层硬度测量 | 第33页 |
| 3.4.6 相组成 | 第33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第4章 不同波形控制方式对微弧氧化的影响试验研究 | 第35-50页 |
| 4.1 不同波形控制方式对铝合金微弧氧化的影响试验 | 第35-39页 |
| 4.1.1 对铝合金微弧氧化防腐膜的影响 | 第35-37页 |
| 4.1.2 对铝合金微弧氧化硬质膜的影响 | 第37-39页 |
| 4.2 不同波形控制方式对镁合金微弧氧化的影响试验 | 第39-43页 |
| 4.2.1 对镁合金微弧氧化防腐膜的影响 | 第39-41页 |
| 4.2.2 对镁合金微弧氧化硬质膜的影响 | 第41-43页 |
| 4.3 不同电流波形控制方式对微弧氧化的影响分析 | 第43-48页 |
| 4.3.1 电源输出验证及电流波形变化对比 | 第43-45页 |
| 4.3.2 正负脉冲作用时的反应机理分析 | 第45-48页 |
| 4.3.3 不同波形控制方式对微弧氧化的影响分析 | 第48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 电磁场作用于微弧氧化过程的试验研究 | 第50-57页 |
| 5.1 电磁场作用于电解液理论分析 | 第50-51页 |
| 5.1.1 电磁场对带电粒子作用力 | 第50页 |
| 5.1.2 磁电化学沉积理论 | 第50-51页 |
| 5.2 电磁场强度对微弧氧化起弧电压的影响 | 第51-52页 |
| 5.3 电磁场对膜层生长速率的影响试验 | 第52-53页 |
| 5.4 有无电磁场的膜层特性对比 | 第53-56页 |
| 5.4.1 耐蚀性 | 第53页 |
| 5.4.2 硬度分布 | 第53-54页 |
| 5.4.3 微观形貌 | 第54-55页 |
| 5.4.4 相组成 | 第55页 |
| 5.4.5 元素含量 | 第55-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
