| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-38页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 物理气相沉积(PVD) | 第13-28页 |
| 1.2.1 PVD概述 | 第13-14页 |
| 1.2.2 等离子体 | 第14-16页 |
| 1.2.3 薄膜生长与薄膜结构 | 第16-23页 |
| 1.2.4 溅射镀膜 | 第23-25页 |
| 1.2.5 脉冲直流溅射 | 第25-26页 |
| 1.2.6 磁控溅射 | 第26-28页 |
| 1.3 硬质薄膜 | 第28-30页 |
| 1.3.1 硬质薄膜的定义 | 第28-29页 |
| 1.3.2 硬质薄膜的分类 | 第29-30页 |
| 1.4 纳米复合薄膜 | 第30-35页 |
| 1.4.1 纳米多相复合薄膜 | 第31-34页 |
| 1.4.2 纳米叠层复合薄膜 | 第34-35页 |
| 1.5 本文研究思路及实验方案 | 第35-38页 |
| 1.5.1 研究思路 | 第35-36页 |
| 1.5.2 实验方案 | 第36-38页 |
| 第二章 薄膜的制备与分析测试方法 | 第38-56页 |
| 2.1 纳米叠层薄膜的制备 | 第38-41页 |
| 2.1.1 磁控溅射设备 | 第38-39页 |
| 2.1.2 实验原材料 | 第39-40页 |
| 2.1.3 制备工艺 | 第40-41页 |
| 2.2 薄膜表征方法 | 第41-47页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第41-43页 |
| 2.2.2 扫描电镜(Scanning Electron Microscope) | 第43-45页 |
| 2.2.3 能谱分析(EDS) | 第45页 |
| 2.2.4 原子力显微镜(Atomic Force Microscope) | 第45-46页 |
| 2.2.5 表面轮廓仪 | 第46-47页 |
| 2.3 性能测试方法 | 第47-56页 |
| 2.3.1 纳米压痕 | 第47-51页 |
| 2.3.2 维氏显微硬度计 | 第51-52页 |
| 2.3.3 划痕仪 | 第52页 |
| 2.3.4 UMT-3摩擦磨损测试仪 | 第52-56页 |
| 第三章 VC/Ni纳米叠层薄膜的结构 | 第56-68页 |
| 3.1 XRD分析 | 第56-62页 |
| 3.1.1 小角XRD | 第56-59页 |
| 3.1.2 高角XRD | 第59-62页 |
| 3.2 SEM | 第62-67页 |
| 3.2.1 生长结构 | 第62-65页 |
| 3.2.2 叠层结构 | 第65-67页 |
| 3.3 本章小结 | 第67-68页 |
| 第四章 机械性能 | 第68-80页 |
| 4.1 硬度和模量 | 第68-71页 |
| 4.1.1 硬度 | 第68-69页 |
| 4.1.2 模量 | 第69-71页 |
| 4.2 薄膜韧性 | 第71-73页 |
| 4.2.1 韧性概述 | 第71-72页 |
| 4.2.2 压痕法表征韧性 | 第72-73页 |
| 4.3 表面粗糙度 | 第73-76页 |
| 4.3.1 概述 | 第73页 |
| 4.3.2 粗糙度测量 | 第73-76页 |
| 4.4 膜基结合力 | 第76-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-80页 |
| 第五章 摩擦学性能 | 第80-94页 |
| 5.1 摩擦磨损测试 | 第80-83页 |
| 5.1.1 摩擦系数 | 第80-82页 |
| 5.1.2 磨损量 | 第82-83页 |
| 5.2 磨擦机理分析 | 第83-93页 |
| 5.2.1 磨痕全貌分析 | 第85-87页 |
| 5.2.2 磨痕微观分析 | 第87-93页 |
| 5.3 本章小结 | 第93-94页 |
| 第六章 结论与展望 | 第94-96页 |
| 6.1 结论 | 第94-95页 |
| 6.2 展望 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-108页 |
| 附录A：攻读学位期间科研产出 | 第108页 |