| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-16页 |
| ·垂直磁记录简介 | 第8-12页 |
| ·水平和垂直磁记录 | 第8-10页 |
| ·垂直磁记录介质 | 第10-12页 |
| ·硬盘产业发展趋势 | 第12-14页 |
| ·硬盘系统概述 | 第12-13页 |
| ·记录技术发展趋势 | 第13-14页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第16-30页 |
| ·薄膜的生长机理 | 第16-20页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第16-18页 |
| ·溅射薄膜的生长 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射中影响薄膜结构的因素 | 第19-20页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第20-24页 |
| ·溅射原理 | 第20-22页 |
| ·Lesker CMS-18磁控溅射系统 | 第22-24页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第24-29页 |
| ·薄膜厚度表征 | 第24-25页 |
| ·样品结构表征 | 第25-27页 |
| ·样品磁性能表征 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第三章 MnAl多层膜的铁磁性相研究 | 第30-44页 |
| ·MnAl楔形膜研究 | 第32-38页 |
| ·MnAl楔形膜的制备过程 | 第32-33页 |
| ·样品成分变化对薄膜结构和磁性能的影响 | 第33-34页 |
| ·τ-MnAl磁晶颗粒间相互作用 | 第34-36页 |
| ·τ-MnAl磁性颗粒的翻转机制 | 第36-38页 |
| ·缓冲层对MnAl结构和磁性能的影响 | 第38-43页 |
| ·样品的制备与检测 | 第38页 |
| ·MnAl多层膜最佳制备条件的确定 | 第38-39页 |
| ·缓冲层对τ-MnAl结构形成的影响 | 第39-40页 |
| ·缓冲层对τ-MnAl磁性能的影响 | 第40-42页 |
| ·GaAs衬底上缓冲层对MnAl性能影响 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 FePt基交换耦合结构和梯度型结构介质研究 | 第44-56页 |
| ·L1_0-FePt/Fe和FePt/Co/Fe的制备 | 第45页 |
| ·FePt/Fe双层膜(ECC)研究 | 第45-49页 |
| ·FePt/Co/Fe多层膜(Graded Media)研究 | 第49-51页 |
| ·磁化翻转模式讨论 | 第51-54页 |
| ·两种磁化翻转模型 | 第51-53页 |
| ·翻转模式的实验观测 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 硕士期间已发表论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
