EAST钨壁条件下锂化壁处理的发展及其实验研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第18-34页 |
| 1.1 受控核聚变能源 | 第18-20页 |
| 1.2 托卡马克 | 第20-23页 |
| 1.3 等离子体与壁相互作用 | 第23-30页 |
| 1.3.1 等离子体与壁相互作用简述 | 第23-25页 |
| 1.3.2 杂质对等离子体的影响 | 第25-27页 |
| 1.3.3 氢的滞留与再循环 | 第27-29页 |
| 1.3.4 第一壁材料及壁处理方法 | 第29-30页 |
| 1.4 钨壁下锂化壁处理研究的意义和要求 | 第30-32页 |
| 1.5 论文的主要研究内容和结构 | 第32-34页 |
| 第二章 金属锂在聚变装置中的应用 | 第34-48页 |
| 2.1 金属锂的物理化学性质 | 第34-35页 |
| 2.2 锂化壁处理在聚变装置中的发展与现状 | 第35-46页 |
| 2.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 EAST装置及第一壁介绍 | 第48-56页 |
| 3.1 EAST超导托卡马克装置介绍 | 第48-50页 |
| 3.2 EAST第一壁材料 | 第50-52页 |
| 3.3 EAST真空抽气系统 | 第52-53页 |
| 3.4 EAST第一壁处理方法 | 第53-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 EAST锂化壁处理技术 | 第56-70页 |
| 4.1 锂蒸发涂覆壁处理技术 | 第56-62页 |
| 4.1.1 锂蒸发镀膜壁处理系统 | 第56-58页 |
| 4.1.2 锂化镀膜方式 | 第58-59页 |
| 4.1.3 锂化壁处理过程 | 第59-60页 |
| 4.1.4 锂蒸发速率计算 | 第60-61页 |
| 4.1.5 锂膜的分布情况 | 第61-62页 |
| 4.2 炮间锂化壁处理系统 | 第62-64页 |
| 4.3 实时锂化壁处理系统 | 第64-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-70页 |
| 第五章 金属壁条件下锂化壁处理的研究 | 第70-90页 |
| 5.1 锂化镀膜壁处理系统的发展 | 第70-75页 |
| 5.2 金属壁条件下锂化壁处理实验结果 | 第75-82页 |
| 5.3 金属壁条件下锂化壁处理对长脉冲放电的贡献 | 第82-84页 |
| 5.4 炮间锂化壁处理实验结果 | 第84-88页 |
| 5.5 本章小结 | 第88-90页 |
| 第六章 金属壁条件下锂粉实时注入实验研究 | 第90-108页 |
| 6.1 锂粉实时注入抑制钨杂质 | 第90-99页 |
| 6.1.1 L-模中锂粉实时注入 | 第90-93页 |
| 6.1.2 H-模中锂粉实时注入 | 第93-97页 |
| 6.1.3 长脉冲放电中锂粉实时注入 | 第97-99页 |
| 6.2 锂粉实时注入抑制再循环 | 第99-103页 |
| 6.3 锂粉实时注入抑制ELMs | 第103-106页 |
| 6.4 本章小结 | 第106-108页 |
| 第七章 讨论 | 第108-116页 |
| 7.1 锂化壁处理 | 第108页 |
| 7.2 锂化与硼化、硅化对比 | 第108-109页 |
| 7.3 三种类型锂化壁处理技术对比 | 第109-110页 |
| 7.4 新型杂质颗粒注入系统构建 | 第110-115页 |
| 7.5 本章小结 | 第115-116页 |
| 第八章 总结与展望 | 第116-120页 |
| 8.1 总结与创新点 | 第116-118页 |
| 8.2 展望 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-128页 |
| 致谢 | 第128-130页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第130页 |
