| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-26页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 纳米材料 | 第9-13页 |
| 1.2.1 概念与分类 | 第9页 |
| 1.2.2 性质与应用 | 第9-10页 |
| 1.2.3 纳米Ti0_2 简介 | 第10-11页 |
| 1.2.4 纳米材料制备 | 第11-13页 |
| 1.3 表面活性剂及其分子有序组合体 | 第13-15页 |
| 1.3.1 胶束 | 第13-14页 |
| 1.3.2 微乳液 | 第14页 |
| 1.3.3 溶致液晶 | 第14页 |
| 1.3.4 囊泡 | 第14-15页 |
| 1.4 溶致液晶概述 | 第15-18页 |
| 1.4.1 液晶简介 | 第15页 |
| 1.4.2 溶致液晶的形成机制 | 第15-16页 |
| 1.4.3 溶致液晶的表征 | 第16-18页 |
| 1.5 溶致液晶模板法合成材料的进展 | 第18-23页 |
| 1.5.1 多孔纳米结构 | 第18-20页 |
| 1.5.2 其他纳米结构 | 第20-23页 |
| 1.6 论文选题思路、研究内容与意义 | 第23-26页 |
| 1.6.1 选题思路 | 第23-24页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 1.6.3 研究意义 | 第25-26页 |
| 第二章 SDS/CTAB/C_5H_(11)OH/H_2O 体系构建溶致液晶制备纳米 TiO_2 的研究 | 第26-38页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.2.1 实验药品和试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.2 实验设备和表征设备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 溶致液晶相和样品的表征 | 第28页 |
| 2.3 实验过程 | 第28-30页 |
| 2.3.1 溶液制备 | 第28-29页 |
| 2.3.2 溶致液晶的配置 | 第29-30页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第30-36页 |
| 2.4.1 溶致液晶POM 分析 | 第30-31页 |
| 2.4.2 溶致液晶FT-IR 分析 | 第31-32页 |
| 2.4.3 FT-IR 分析 | 第32-33页 |
| 2.4.4 TG-DTA 分析 | 第33-34页 |
| 2.4.5 XRD 分析 | 第34页 |
| 2.4.6 TEM 和HRTEM 分析 | 第34-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 TritonX-100/C_(10)H_(21)OH/H_2O 体系构建溶致液晶制备纳米 TiO_2 的研究 | 第38-52页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38-40页 |
| 3.2.1 实验药品和试剂 | 第38-39页 |
| 3.2.2 实验设备和表征设备 | 第39页 |
| 3.2.3 溶致液晶相和样品的表征 | 第39-40页 |
| 3.3 实验过程 | 第40-42页 |
| 3.3.1 溶液制备 | 第40页 |
| 3.3.2 溶致液晶的配制 | 第40-42页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第42-50页 |
| 3.4.1 溶致液晶POM 表征分析 | 第42-44页 |
| 3.4.2 溶致液晶Low-angle XRD 分析 | 第44-45页 |
| 3.4.3 溶致液晶FT-IR 分析 | 第45-46页 |
| 3.4.4 FT-IR 分析 | 第46页 |
| 3.4.5 TG-DTA 分析 | 第46-47页 |
| 3.4.6 XRD 分析 | 第47-48页 |
| 3.4.7 TEM 和HRTEM 分析 | 第48-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 TritonX-100/H_20 体系构建溶致液晶制备纳米Ti0_2 的研究 | 第52-66页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 4.2.1 实验药品和试剂 | 第52-53页 |
| 4.2.2 实验设备和表征手段 | 第53页 |
| 4.2.3 溶致液晶相和样品的表征 | 第53-54页 |
| 4.3 实验过程 | 第54-56页 |
| 4.3.1 溶液制备 | 第54页 |
| 4.3.2 溶致液晶的配置 | 第54-56页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第56-64页 |
| 4.4.1 溶致液晶POM 表征分析 | 第56-57页 |
| 4.4.2 溶致液晶Low-angle XRD 表征分析 | 第57-58页 |
| 4.4.3 溶致液晶FT-IR 表征分析 | 第58-59页 |
| 4.4.4 FT-IR 分析 | 第59页 |
| 4.4.5 TG-DTA 分析 | 第59-60页 |
| 4.4.6 XRD 分析 | 第60-61页 |
| 4.4.7 TEM 和HRTEM 分析 | 第61-63页 |
| 4.4.8 直接沉淀法制备的Ti0_2 SEM 和HRSEM 图 | 第63-64页 |
| 4.5 合成机理研究 | 第64-65页 |
| 4.6 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 5.2 工作展望 | 第67-68页 |
| 符号说明 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
