摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-19页 |
1.1 柔性电子设备的研究现状 | 第8-14页 |
1.1.1 结构伸展 | 第8-11页 |
1.1.2 材料伸展 | 第11页 |
1.1.3 最新研究进展 | 第11-14页 |
1.2 皱纹模板 | 第14-17页 |
1.2.1 机械拉伸法 | 第15页 |
1.2.2 加热诱导法 | 第15-16页 |
1.2.3 溶剂诱导法 | 第16-17页 |
1.3 无电沉积技术 | 第17-18页 |
1.4 研究思路及创新之处 | 第18-19页 |
第二章 实验原料和实验装置 | 第19-22页 |
2.1 实验材料 | 第19-20页 |
2.1.1 实验所用的化学药品相关信息如下: | 第19页 |
2.1.2 PDMS 弹性基底的制备 | 第19-20页 |
2.2 实验测试设备 | 第20页 |
2.3 表征手段 | 第20-22页 |
2.3.1 倒置荧光显微镜(IFM) | 第20页 |
2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第20-21页 |
2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
第三章 PDMS 皱纹模板对导电复合材料性能的影响 | 第22-41页 |
3.1 PDMS 皱纹模板的制备 | 第22-23页 |
3.2 Ag/PDMS 导电复合材料的制备 | 第23页 |
3.3 结果与讨论 | 第23-36页 |
3.3.1 PDMS 皱纹模板的调控 | 第23-25页 |
3.3.2 银的无电沉积反应 | 第25-26页 |
3.3.3 皱纹模板对 Ag/PDMS 导电复合材料电阻值的影响 | 第26-36页 |
3.4 PDMS 皱纹模板的对比实验 | 第36-40页 |
3.4.1 利用 UVO 制备 PDMS 皱纹模板 | 第36-38页 |
3.4.2 以 PDMS 为基底拉伸过程中沉积银膜 | 第38-40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 无电沉积对导电复合材料性能的影响 | 第41-60页 |
4.1 银的无电沉积 | 第41-42页 |
4.1.1 银的无电沉积反应过程 | 第41页 |
4.1.2 无电沉积反应参数设置 | 第41-42页 |
4.2 结果与讨论 | 第42-55页 |
4.2.1 常温下柔性电极的性能随反应时间的变化 | 第42-50页 |
4.2.2 水浴条件下柔性电极的性能随反应时间的变化 | 第50-55页 |
4.3 导电复合材料的性能测试 | 第55-59页 |
4.3.1 拉伸-回缩循环测试 | 第55-57页 |
4.3.2 LED 发光电路测试 | 第57-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
发表论文和科研情况说明 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |