| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 纳米技术概述 | 第9-11页 |
| 1.1.1 纳米材料的定义 | 第9页 |
| 1.1.2 纳米材料的种类 | 第9-10页 |
| 1.1.3 纳米材料的物理和化学性质 | 第10-11页 |
| 1.2 量子点概述 | 第11-12页 |
| 1.2.1 量子点的光学特性 | 第11-12页 |
| 1.3 荧光探针及细胞成像概述 | 第12-13页 |
| 1.4 硅材料概述 | 第13-14页 |
| 1.4.1 硅的存在形式及结构 | 第13页 |
| 1.4.2 硅纳米材料研究的意义 | 第13-14页 |
| 1.5 硅量子点的合成、表面修饰与应用 | 第14-23页 |
| 1.5.1 硅量子点的制备 | 第14-17页 |
| 1.5.2 荧光硅量子点表面修饰研究进展 | 第17-20页 |
| 1.5.3 硅量子点的应用 | 第20-23页 |
| 1.6 TNT 的检测方法概述 | 第23-24页 |
| 1.7 本文的立题依据及研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 荧光硅量子点的制备 | 第25-33页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-28页 |
| 2.2.1 实验试剂和仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.2 试验方法 | 第26-28页 |
| 2.3 结果讨论 | 第28-33页 |
| 2.3.1 制得的表面修饰的硅量子点荧光性能比较 | 第28-30页 |
| 2.3.2 硅量子点的紫外可见吸收光谱 | 第30-31页 |
| 2.3.3 表面钝化硅量子点以及硅量子点的荧光量子产率的测定 | 第31-32页 |
| 2.3.4 氨基化硅量子点的物性 | 第32-33页 |
| 第3章 基于表面钝化氨基硅量子点的 TNT/TNP 痕量检测 | 第33-42页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验部分 | 第34-37页 |
| 3.2.1 实验试剂和仪器 | 第34-35页 |
| 3.2.2 硅量子点制备 | 第35-36页 |
| 3.2.3 定量检测 TNT 和 TNP | 第36页 |
| 3.2.4 机理证明 | 第36-37页 |
| 3.2.5 考察 pH 敏感性 | 第37页 |
| 3.2.6 干扰实验 | 第37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-41页 |
| 3.3.1 氨基化硅量子点的物性 | 第37-38页 |
| 3.3.2 分析体系性能 | 第38-39页 |
| 3.3.3 检测机理 | 第39-40页 |
| 3.3.4 pH 干扰 | 第40页 |
| 3.3.5 选择性考察 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 荧光硅量子点在线粒体定位中的应用 | 第42-46页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-44页 |
| 4.2.1 材料和试剂 | 第43页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第43-44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-56页 |
| 附录 A 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |