| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 NiMnX(X=In、Sn、Sb)合金的结构和磁性 | 第9-10页 |
| 1.3 NiMnX(X=In、Sn、Sb)合金的交换偏置效应 | 第10-12页 |
| 1.4 NiMnX(X=In、Sn、Sb)合金的磁电阻效应 | 第12-13页 |
| 1.5 NiMnX(X=In、Sn、Sb)合金的磁卡效应 | 第13页 |
| 1.6 国内外研究现状 | 第13-17页 |
| 1.7 本文研究的目标、内容及意义 | 第17-18页 |
| 第二章 实验方法 | 第18-24页 |
| 2.1 样品制备简介 | 第18-20页 |
| 2.1.1 合金样品的制备 | 第18-19页 |
| 2.1.2 薄膜样品的制备 | 第19-20页 |
| 2.2 性能表征设备简介 | 第20-24页 |
| 2.2.1 结构、成分表征设备简介 | 第20-21页 |
| 2.2.2 磁性、输运行为表征 | 第21-24页 |
| 第三章 NiMnIn合金中交换偏置效应的调控特性研究 | 第24-32页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 Ni50Mn37In13合金的制备、成分、结构表征 | 第24-25页 |
| 3.3 合金磁性表征 | 第25-28页 |
| 3.4 合金交换偏置行为 | 第28-31页 |
| 3.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 NiMnIn薄膜中线性磁阻行为研究 | 第32-40页 |
| 4.1 引言 | 第32-33页 |
| 4.2 NiMnIn合金靶材的制备 | 第33-34页 |
| 4.3 薄膜样品的制备 | 第34页 |
| 4.4 薄膜成分、结构表征 | 第34-35页 |
| 4.5 薄膜的磁性表征 | 第35-36页 |
| 4.6 薄膜电输运行为 | 第36-39页 |
| 4.7 本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 NiCoMnIn合金中磁卡效应研究 | 第40-46页 |
| 5.1 引言 | 第40页 |
| 5.2 NiCoMnIn合金的制备 | 第40页 |
| 5.3 NiCoMnln合金中本征的磁卡效应 | 第40-45页 |
| 5.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 结论及展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 论文及专利 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
