| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-25页 |
| 1.1 引言 | 第15-16页 |
| 1.2 BIVO_4简介 | 第16-18页 |
| 1.3 BIVO_4的光电化学性能提升策略 | 第18-21页 |
| 1.3.1 形态控制 | 第18页 |
| 1.3.2 元素掺杂 | 第18-19页 |
| 1.3.3 复合结构 | 第19-21页 |
| 1.4 BIVO_4复合结构研究进展 | 第21-22页 |
| 1.4.1 反型异质结 | 第21-22页 |
| 1.4.2 同型异质结 | 第22页 |
| 1.5 本论文的选题意义与主要内容 | 第22-25页 |
| 第二章 样品的制备及表征方法 | 第25-37页 |
| 2.1 溶胶凝胶法介绍 | 第25页 |
| 2.2 实验方法 | 第25-32页 |
| 2.2.1 制备样品膜的实验器材与试剂的选取 | 第25-26页 |
| 2.2.2 基体的清洗 | 第26页 |
| 2.2.3 制备前驱体溶胶步骤 | 第26-27页 |
| 2.2.4 前驱体溶胶黏度的测定 | 第27-29页 |
| 2.2.5 膜/基附着强度的影响因素 | 第29-31页 |
| 2.2.6 薄膜的退火处理 | 第31-32页 |
| 2.3 薄膜性能表征及原理简介 | 第32-37页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第32-33页 |
| 2.3.2 金相显微镜 | 第33-34页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜分析 | 第34页 |
| 2.3.4 能谱仪成分分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 紫外—可见光透射光谱分析 | 第35-37页 |
| 第三章 CuWO_4薄膜制备工艺研究 | 第37-52页 |
| 3.1 增稠剂对CUWO_4溶胶铺展性的影响 | 第37-38页 |
| 3.2 薄膜制备工艺 | 第38-48页 |
| 3.2.1 镀膜方法的影响 | 第38-42页 |
| 3.2.2 CuWO_4膜的干燥处理 | 第42-46页 |
| 3.2.3 热处理时间对CuWO_4薄膜的物相结构影响 | 第46-48页 |
| 3.3 基体材料对膜层XRD谱的影响 | 第48-49页 |
| 3.4 基体材料对膜层表面形貌的影响 | 第49-50页 |
| 3.5 本章小节 | 第50-52页 |
| 第四章 BiVO_4薄膜制备工艺探讨 | 第52-61页 |
| 4.1 增稠剂CMC—NA对BIVO_4前驱体溶胶黏度的影响 | 第52-53页 |
| 4.2 CMC—NA对BIVO_4表面形貌的影响 | 第53-56页 |
| 4.3 旋涂成膜后浸渍时间对BIVO_4薄膜的物相结构影响 | 第56-57页 |
| 4.4 旋涂成膜后浸渍时间对BIVO_4表面形貌的影响 | 第57-59页 |
| 4.5 冷却方式对BIVO_4薄膜的物相结构影响 | 第59页 |
| 4.6 本章小节 | 第59-61页 |
| 第五章 BIVO_4/CuWO_4复合薄膜的制备与性能 | 第61-70页 |
| 5.1 XRD谱 | 第61-62页 |
| 5.2 膜层表面形貌分析 | 第62-64页 |
| 5.3 多层膜紫外-可见光光谱分析 | 第64-67页 |
| 5.3.1 CuWO_4与BiVO_4的UV-Vis光谱 | 第64页 |
| 5.3.2 光学带隙分析 | 第64-65页 |
| 5.3.3 CuWO_4多层膜和BiVO_4多层膜的UV-Vis光谱 | 第65-66页 |
| 5.3.4 CuWO_4/BiVO_4复合多层膜的UV-Vis光谱 | 第66-67页 |
| 5.4 EDS分析 | 第67-68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 全文总结 | 第70-72页 |
| 特色与创新之处 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
