| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 NO_x控制技术 | 第12-13页 |
| 1.2.1 低氮燃烧技术 | 第12页 |
| 1.2.2 选择性催化还原法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 选择性非催化还原法 | 第13页 |
| 1.2.4 SNCR/SCR联合脱硝工艺 | 第13页 |
| 1.3 选择性催化还原脱硝技术 | 第13-14页 |
| 1.4 SCR脱硝系统 | 第14-15页 |
| 1.5 低温SCR催化剂 | 第15-19页 |
| 1.5.1 单金属氧化物催化剂 | 第16-17页 |
| 1.5.2 多金属氧化物催化剂 | 第17-18页 |
| 1.5.3 负载在碳材料上的金属氧化物催化剂 | 第18-19页 |
| 1.5.4 沸石催化剂 | 第19页 |
| 1.6 Mn基催化剂低温SCR反应机理 | 第19-20页 |
| 1.7 Mn基催化剂存在的问题 | 第20-21页 |
| 1.7.1 N_2O的生成 | 第20-21页 |
| 1.7.2 SO_2的影响 | 第21页 |
| 1.8 研究目的和主要内容 | 第21-23页 |
| 2 实验系统与分析方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第23页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第23-24页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第24页 |
| 2.3 催化剂的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 催化剂的XRD晶相分析 | 第24页 |
| 2.3.2 原位漫反射红外光谱(in situ DRIFTS)分析 | 第24页 |
| 2.3.3 催化剂的比表面积(N_2物理吸附)测定 | 第24页 |
| 2.3.4 催化剂的程序升温还原(H_2-TPR) | 第24-25页 |
| 2.3.5 催化剂的X射线光电子能谱测定(XPS) | 第25页 |
| 2.3.6 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第25页 |
| 2.3.7 NO程序升温脱附(NO-TPD) | 第25页 |
| 2.3.8 硫化 | 第25页 |
| 2.4 催化剂的低温SCR活性评价系统 | 第25-28页 |
| 2.4.1 催化剂SCR活性评价装置 | 第25-26页 |
| 2.4.2 催化剂SCR活性评价方法 | 第26-28页 |
| 3 MnO_x/TiO_2催化剂N_2O生成机制研究 | 第28-42页 |
| 3.1 催化剂的低温SCR活性 | 第28-29页 |
| 3.2 NO浓度对N_2O选择性的影响 | 第29-30页 |
| 3.3 原位红外研究 | 第30-36页 |
| 3.3.1 150℃下的瞬态反应 | 第30-33页 |
| 3.3.2 250℃下的瞬态反应 | 第33-36页 |
| 3.4 N_2O生成机制研究 | 第36-40页 |
| 3.4.1 Langmuir-Hinshelwood机制生成的N_2O | 第36-37页 |
| 3.4.2 Eley-Rideal机制生成的N_2O | 第37-39页 |
| 3.4.3 L-H和E-R机制共同生成的N_2O | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 4 硫化对MnO_x/TiO_2催化剂SCR脱硝活性影响评价 | 第42-60页 |
| 4.1 硫化前后催化剂SCR活性对比 | 第42-44页 |
| 4.2 硫化前后催化剂XRD与BET对比 | 第44页 |
| 4.3 硫化前后催化剂XPS分析 | 第44-46页 |
| 4.4 硫化前后催化剂H_2-TPR分析 | 第46-47页 |
| 4.5 催化剂硫化前后NH_3单独氧化能力 | 第47-48页 |
| 4.6 硫化前后催化剂NH_3-TPD和NO-TPD | 第48-49页 |
| 4.7 硫化前后催化剂吸附NO+O_2/NH_3原位红外 | 第49-50页 |
| 4.8 硫化前后催化剂瞬态反应 | 第50-53页 |
| 4.8.1 硫化前催化剂 | 第50-52页 |
| 4.8.2 硫化后催化剂 | 第52-53页 |
| 4.9 讨论 | 第53-58页 |
| 4.9.1 反应机制 | 第53-56页 |
| 4.9.2 硫化对催化剂NO还原的影响 | 第56-58页 |
| 4.10 本章小结 | 第58-60页 |
| 5 本文结论及展望 | 第60-62页 |
| 5.1 本文结论 | 第60页 |
| 5.2 工作展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-71页 |
| 附录 | 第71页 |
