| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 超光滑表面的特点及主要应用 | 第9-11页 |
| 1.3 先进超光滑表面加工工艺技术 | 第11-16页 |
| 1.3.1 离子束刻蚀抛光技术 | 第11-13页 |
| 1.3.2 其他超光滑加工工艺技术 | 第13-16页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第16页 |
| 1.5 课题研究的主要内容 | 第16-18页 |
| 2 超光滑光学表面评价及测量 | 第18-22页 |
| 2.1 超光滑光学表面的测量 | 第18-20页 |
| 2.2 超光滑光学表面的质量评价 | 第20-21页 |
| 2.3 本章小结 | 第21-22页 |
| 3 超光滑光学表面平坦化工艺的研究路线 | 第22-34页 |
| 3.1 超光滑光学表面平坦化工艺技术路线 | 第22-24页 |
| 3.2 材料的选取 | 第24-27页 |
| 3.2.1 基底材料的选取 | 第24-26页 |
| 3.2.2 平坦化层材料的选取 | 第26-27页 |
| 3.3 超光滑光学表面平坦化技术理论概述 | 第27-33页 |
| 3.3.1 平坦化层制备工艺原理概述 | 第27-28页 |
| 3.3.2 聚合物旋涂工艺理论模型 | 第28-32页 |
| 3.3.3 聚合物表面流动性质 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 聚合物旋涂工艺 | 第34-46页 |
| 4.1 实验材料与方法 | 第34页 |
| 4.2 初始ZNS、KDP晶体表面检测 | 第34-37页 |
| 4.3 转速对平坦化层表面粗糙度的影响 | 第37-41页 |
| 4.3.1 转速对ZnS基底表面平坦化层粗糙度的影响 | 第37-39页 |
| 4.3.2 转速对KDP基底表面平坦化层粗糙度的影响 | 第39-41页 |
| 4.4 聚合物的浓度对表面粗糙度的影响 | 第41-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 5 平坦化回流工艺 | 第46-59页 |
| 5.1 热回流工艺 | 第46-52页 |
| 5.1.1 热回流温度对表面粗糙度的影响 | 第46-50页 |
| 5.1.2 回流时间对表面粗糙度的影响 | 第50-52页 |
| 5.2 气相回流工艺 | 第52-57页 |
| 5.2.1 通气时间对粗糙度的影响 | 第54-55页 |
| 5.2.2 通气流量对粗糙度的影响 | 第55-57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 6 结论 | 第59-61页 |
| 6.1 结论 | 第59-60页 |
| 6.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |