替比培南匹伏酯侧链及重楼皂甙Ⅵ的半合成工艺研究
摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第8-28页 |
1、碳青霉烯类抗生素研究现状 | 第8-26页 |
1.1 碳青霉烯类抗生素概述 | 第8-10页 |
1.2 碳青霉烯类抗生素研究进展 | 第10-20页 |
1.3 替比培南匹伏酯简介 | 第20-22页 |
1.4 替比培南匹伏酯全合成研究进展 | 第22-23页 |
1.5 已知替比培南匹伏酯侧链合成分法 | 第23-26页 |
2、偏诺皂甙类化合物研究现状 | 第26-28页 |
2.1 偏诺皂甙类化合物概述 | 第26-27页 |
2.2 偏诺皂甙类化合物研究进展 | 第27-28页 |
第二章 替比培南匹伏酯侧链合成工艺研究 | 第28-36页 |
1、立题依据 | 第28页 |
2、总反应方程式及详细各步操作工艺 | 第28-36页 |
2.1 FM-d的制备 | 第29-30页 |
2.2 FM-e的制备 | 第30-32页 |
2.3 FM-f的制备 | 第32-33页 |
2.4 FM-g的制备 | 第33-36页 |
第三章 重楼皂甙Ⅵ的合成 | 第36-47页 |
1、立题依据 | 第36页 |
2、总反应方程式及详细各步操作工艺 | 第36-47页 |
2.1 化合物1-2的制备 | 第37-38页 |
2.2 化合物1-3的制备 | 第38-39页 |
2.3 化合物1-4的制备 | 第39页 |
2.4 化合物1-6的制备 | 第39-40页 |
2.5 化合物1-7的制备 | 第40页 |
2.6 化合物1-8的制备 | 第40-41页 |
2.7 化合物1-9的制备 | 第41-42页 |
2.8 化合物1-10的制备 | 第42页 |
2.9 化合物1-11的制备 | 第42-43页 |
2.10 化合物1-12的制备 | 第43-44页 |
2.11 化合物2的制备 | 第44-47页 |
第四章 总结与展望 | 第47-49页 |
1、总结 | 第47页 |
2、展望 | 第47-49页 |
参考文献 | 第49-53页 |
附录 | 第53-59页 |
致谢 | 第59页 |