| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 课题背景 | 第11页 |
| 1.2 表面增强拉曼散射简介 | 第11-13页 |
| 1.2.1 拉曼光谱 | 第11-12页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼散射 | 第12-13页 |
| 1.3 SERS基底研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4 硅纳米线结构的性质及应用 | 第15-17页 |
| 1.4.1 硅纳米线结构的光学性质 | 第15-17页 |
| 1.4.2 硅纳米线结构的电学性质 | 第17页 |
| 1.4.3 硅纳米线的热力学性质 | 第17页 |
| 1.5 硅纳米线结构的制备方法 | 第17-22页 |
| 1.5.1 “自下而上”方法 | 第18-20页 |
| 1.5.2 “自上而下”方法 | 第20-22页 |
| 1.6 本论文研究目的及意义 | 第22页 |
| 1.7 本论文主要研究内容 | 第22-25页 |
| 第2章 实验及表征方法 | 第25-29页 |
| 2.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.3 表征方法 | 第26-27页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第26页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪 | 第26页 |
| 2.3.3 拉曼光谱仪 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 银纳米颗粒的制备及表征 | 第29-37页 |
| 3.1 前言 | 第29页 |
| 3.2 银纳米颗粒制备方法 | 第29-30页 |
| 3.3 银纳米颗粒制备 | 第30-31页 |
| 3.3.1 清洗硅片 | 第30页 |
| 3.3.2 浸镀法沉积银纳米颗粒 | 第30-31页 |
| 3.3.3 磁控溅射沉积银纳米颗粒 | 第31页 |
| 3.3.4 退火处理银纳米颗粒 | 第31页 |
| 3.4 银纳米颗粒的表征分析 | 第31-35页 |
| 3.4.1 银纳米颗粒的形貌表征 | 第31-33页 |
| 3.4.2 银纳米颗粒的结构分析 | 第33-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 硅纳米线结构的制备及表征 | 第37-51页 |
| 4.1 前言 | 第37页 |
| 4.2 硅纳米线结构的制备 | 第37-38页 |
| 4.3 硅纳米线结构形貌的调控 | 第38-49页 |
| 4.3.1 刻蚀液配比对硅纳米线结构形貌的影响 | 第38-42页 |
| 4.3.2 刻蚀温度对硅纳米线结构形貌的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.3 刻蚀时间对硅纳米线结构形貌的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.4 银催化剂对硅纳米线结构形貌的影响 | 第45-48页 |
| 4.3.5 硅基底晶向对硅纳米线结构形貌的影响 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 硅纳米线结构在表面增强拉曼散射中的应用 | 第51-63页 |
| 5.1 前言 | 第51页 |
| 5.2 SERS基底的制备及表征分析 | 第51-53页 |
| 5.2.1 银修饰硅纳米线基底的制备 | 第51-52页 |
| 5.2.2 银修饰硅纳米线基底的表征分析 | 第52-53页 |
| 5.3 银修饰硅纳米线基底的SERS性能分析 | 第53-61页 |
| 5.3.1 硅纳米线结构的SERS性能 | 第53-54页 |
| 5.3.2 银纳米颗粒的SERS性能 | 第54-56页 |
| 5.3.3 不同形貌的银修饰硅纳米线基底SERS性能比较 | 第56-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |