| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 磁各向异性理论 | 第12-15页 |
| 1.1.1 磁晶各向异性 | 第14页 |
| 1.1.2 形状各向异性 | 第14-15页 |
| 1.1.3 磁弹各向异性 | 第15页 |
| 1.1.4 界面各向异性 | 第15页 |
| 1.2 交换偏置 | 第15-20页 |
| 1.2.1 交换偏置的机理 | 第15-17页 |
| 1.2.1.1 M-B模型 | 第16-17页 |
| 1.2.1.2 反铁磁畴壁模型 | 第17页 |
| 1.2.1.3 随机分布交换场模型 | 第17页 |
| 1.2.2 交换偏置的本征性能 | 第17-18页 |
| 1.2.2.1 磁锻炼效应 | 第17-18页 |
| 1.2.2.2 磁化强度反转的不对称性 | 第18页 |
| 1.2.3 交换偏置的研究现状 | 第18-20页 |
| 1.3 RE-TM系列垂直薄膜 | 第20-22页 |
| 1.3.1 RE-TM合金薄膜的研究与进展 | 第20-21页 |
| 1.3.2 RE/TM多层薄膜的研究与进展 | 第21-22页 |
| 1.4 本论文的主要工作概述 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法和测试原理 | 第24-38页 |
| 2.1 薄膜样品的制备 | 第24-28页 |
| 2.1.1 磁控溅射仪原理 | 第24-26页 |
| 2.1.2 薄膜生长与溅射工艺 | 第26-28页 |
| 2.1.3 基底清洗与工艺条件 | 第28页 |
| 2.2 快速退火热处理工艺（RTA） | 第28-32页 |
| 2.2.1 快速退火的特点 | 第28-30页 |
| 2.2.2 快速退火与薄膜应力 | 第30-32页 |
| 2.3 薄膜的表征方法 | 第32-38页 |
| 2.3.1 膜厚的测量及镀膜速率的测定 | 第32-33页 |
| 2.3.2 微观结构与成分测量 | 第33-35页 |
| 2.3.2.1 X射线衍射（XRD） | 第33-34页 |
| 2.3.2.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第34-35页 |
| 2.3.2.3 X射线能谱仪（EDS） | 第35页 |
| 2.3.3 表面形貌及磁畴结构表征 | 第35-36页 |
| 2.3.4 磁性能表征 | 第36-38页 |
| 第三章 GL/[Fe/Tb]_5/Al多层膜的结构与磁性 | 第38-54页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 实验方法 | 第38-39页 |
| 3.3 实验结果 | 第39-52页 |
| 3.3.1 GL/Fe单层膜的磁性能 | 第39-41页 |
| 3.3.2 Fe层厚度t对[Tb(0.8)/Fe(t)]_5 多层膜磁性的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.3 Tb层厚度t对[Tb(t)/Fe(1.4)]_5 多层膜磁性能的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.4 GL/Al(Ta)/[Tb/Fe]_5/Al(Ta)多层膜的磁性能 | 第45-49页 |
| 3.3.5 快速退火对[Tb(t)/Fe(1.4)]_5 多层膜磁性的影响 | 第49-52页 |
| 3.4 小结 | 第52-54页 |
| 第四章 GL/Ta/Tb/[FeCo/Tb]_5/Ta多层膜的结构与磁性 | 第54-74页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 实验方法 | 第54页 |
| 4.3 实验结果 | 第54-72页 |
| 4.3.1 薄膜结构的XRD表征 | 第54-55页 |
| 4.3.2 表面形貌AFM与SEM表征 | 第55-56页 |
| 4.3.3 FeCo成分的EDS表征 | 第56-57页 |
| 4.3.4 本征磁性能的VSM表征 | 第57-70页 |
| 4.3.4.1 溅射功率对[FeCo/Tb]_5 多层膜磁性能的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.4.2 FeCo层厚度t对[FeCo/Tb]_5 多层膜磁性能的影响 | 第59-64页 |
| 4.3.4.3 Tb层厚度t对[FeCo(1.2)/Tb(t)]_5 多层膜磁性能的影响 | 第64-67页 |
| 4.3.4.4 时效对[FeCo(1.2)/Tb(t)]_5 多层膜磁性能的影响 | 第67-70页 |
| 4.3.5 磁畴结构的MFM表征 | 第70-72页 |
| 4.4 小结 | 第72-74页 |
| 第五章 软磁/硬磁型GL/Ta/[Tb/FeCo]_(5~(Hard)) /Ta(t)/[FeCo/Tb]_(5~(Soft))/Ta多层膜的垂直交换偏置效应 | 第74-87页 |
| 5.1 引言 | 第74页 |
| 5.2 实验方法 | 第74-75页 |
| 5.3 结果与分析 | 第75-85页 |
| 5.3.1 晶体结构的XRD表征 | 第75页 |
| 5.3.2 形貌与磁畴的AFM/MFM表征 | 第75-77页 |
| 5.3.3 本征磁性能的VSM表征 | 第77-85页 |
| 5.3.3.1 间隔层(Ta)厚度t对GL/Ta/Tb/[FeCo/Tb]_(5~(Hard))/Ta(t)/[FeCo/Tb]_(5~(Soft))/Ta多层膜磁性的影响 | 第77-78页 |
| 5.3.3.2 软磁/硬磁层上下位置对GL/Ta/[Tb/FeCo]_5/Ta(t)/[FeCo/Tb]_5/Ta多层膜磁性能的影响 | 第78-80页 |
| 5.3.3.3 Ta层厚度t对GL/Ta/[Tb/FeCo]_(5~(Hard))/Ta(t)/[FeCo/Tb]_(5~(Soft))/Ta多层膜垂直交换偏置效应的影响 | 第80-85页 |
| 5.4 小结 | 第85-87页 |
| 第六章 结论 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-96页 |
| 在学研究成果 | 第96-97页 |
| 致谢 | 第97页 |
