利用卢瑟福沟道背散射模拟研究合金与石英的辐照效应
| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-12页 |
| 1.2 国内外研究动态 | 第12-14页 |
| 1.3 研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 基本理论和方法 | 第16-38页 |
| 2.1 晶体材料中的缺陷 | 第16-19页 |
| 2.2 分子动力学 | 第19-24页 |
| 2.3 两体碰撞过程 | 第24-26页 |
| 2.4 载能离子在物质中的输运、慢化过程 | 第26-32页 |
| 2.4.1 无定型材料中离子径迹的模拟 | 第26-31页 |
| 2.4.2 晶体材料中离子径迹的模拟 | 第31-32页 |
| 2.5 卢瑟福沟道背散射 | 第32-38页 |
| 2.5.1 缺陷对沟道效应的影响 | 第33-34页 |
| 2.5.2 缺陷的深度分布 | 第34-38页 |
| 第三章 任意损伤晶体中沟道背散射模拟程序 | 第38-61页 |
| 3.1 模拟程序的设计与开发 | 第38-46页 |
| 3.1.1 两体碰撞中被碰撞原子的选取 | 第40-41页 |
| 3.1.2 基本两体碰撞近似 | 第41页 |
| 3.1.3 载能离子射程分布的模拟 | 第41-43页 |
| 3.1.4 虚拟背散射离子 | 第43-45页 |
| 3.1.5 背散射信号收集 | 第45-46页 |
| 3.2 不同类型缺陷对沟道背散射产额的贡献 | 第46-55页 |
| 3.2.1 缺陷的生成方法 | 第46-50页 |
| 3.2.2 等浓度不同缺陷的沟道背散射结果对比 | 第50-52页 |
| 3.2.3 不同缺陷产生沟道背散射的机制 | 第52-55页 |
| 3.3 金属Ni中沟道背散射的模拟 | 第55-59页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第55-56页 |
| 3.3.2 沟道背散射能谱拟合 | 第56-59页 |
| 3.4 本章总结 | 第59-61页 |
| 第四章 高浓固溶体合金中的沟道背散射模拟 | 第61-73页 |
| 4.1 高浓固溶体合金 | 第61-62页 |
| 4.2 离子辐照导致高浓固溶体合金的损伤 | 第62-67页 |
| 4.2.1 实验简介 | 第62页 |
| 4.2.2 分子动力学模拟 | 第62-67页 |
| 4.3 损伤高浓固溶体合金中的沟道背散射模拟 | 第67-69页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第69-72页 |
| 4.5 本章总结 | 第72-73页 |
| 第五章 离子辐照导致石英晶体无定型化的模拟 | 第73-93页 |
| 5.1 石英晶体辐照的分子动力学模拟 | 第74-75页 |
| 5.2 结构分析方法 | 第75-78页 |
| 5.3 分析结果 | 第78-87页 |
| 5.4 结果讨论 | 第87-92页 |
| 5.5 本章总结 | 第92-93页 |
| 第六章 总结与展望 | 第93-97页 |
| 参考文献 | 第97-109页 |
| 在学期间的研究成果 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110页 |
