摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-28页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料 | 第11-21页 |
1.2.1 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的晶体结构 | 第11-14页 |
1.2.2 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的性质 | 第14-17页 |
1.2.3 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的制备方法 | 第17-18页 |
1.2.4 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的应用与发展前景 | 第18-21页 |
1.3 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的稳定性 | 第21-26页 |
1.3.1 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料的水降解机理 | 第21-25页 |
1.3.2 有机-无机杂化铅卤钙钛矿材料对水的稳定化研究 | 第25-26页 |
1.4 本课题的研究目的、意义及主要内容 | 第26-28页 |
2 有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米晶的制备及其光电性质 | 第28-38页 |
2.1 前言 | 第28页 |
2.2 实验部分 | 第28-31页 |
2.2.1 实验试剂及仪器 | 第28-29页 |
2.2.2 有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米晶的制备 | 第29-30页 |
2.2.3 有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米晶的表征 | 第30-31页 |
2.3 有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米晶的结果与分析 | 第31-37页 |
2.3.1 CH_3NH_3PbBr_3纳米晶的形貌控制和结构表征 | 第31-33页 |
2.3.2 CH_3NH_3PbBr_3纳米线的形貌演化 | 第33-34页 |
2.3.3 CH_3NH_3PbI_3和CH_3NH_3PbBr_xI_(3-x)纳米线的制备与表征 | 第34-36页 |
2.3.4 CH_3NH_3PbBr_3纳米线和纳米片的光电性能 | 第36-37页 |
2.4 本章小结 | 第37-38页 |
3 后处理法制备有机-无机杂化铅卤钙钛矿共混材料及稳定性研究 | 第38-48页 |
3.1 前言 | 第38-39页 |
3.2 实验部分 | 第39-41页 |
3.2.1 实验仪器及试剂 | 第39-40页 |
3.2.2 PMMA高分子溶液的制备 | 第40页 |
3.2.3 后处理法制备有机-无机杂化铅卤钙钛矿共混材料 | 第40页 |
3.2.4 PNBP薄膜的表征 | 第40页 |
3.2.5 PNBP薄膜的稳定性测试 | 第40-41页 |
3.3 PNBP薄膜的结果与分析 | 第41-46页 |
3.3.1 PNBP薄膜形貌结构的表征与分析 | 第41-44页 |
3.3.2 PNBP薄膜的光学性质 | 第44-46页 |
3.3.3 PNBP薄膜的稳定性分析 | 第46页 |
3.4 本章小结 | 第46-48页 |
4 原位制备有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米复合材料及稳定性研究 | 第48-69页 |
4.1 前言 | 第48页 |
4.2 实验部分 | 第48-51页 |
4.2.1 实验仪器及试剂 | 第48-50页 |
4.2.2 PMMA高分子溶液的制备 | 第50页 |
4.2.3 原位制备有机-无机杂化铅卤钙钛矿纳米复合材料 | 第50页 |
4.2.4 参比薄膜的制备 | 第50页 |
4.2.5 PLAR薄膜的表征 | 第50-51页 |
4.2.6 PLAR薄膜的稳定性测试 | 第51页 |
4.3 实验结果与分析 | 第51-68页 |
4.3.1 聚合物包裹纳米晶以及制备的薄膜结构和形貌 | 第51-55页 |
4.3.2 在LAR合成中PMMA的引入对于块体材料形成的影响 | 第55-56页 |
4.3.3 分散相和连续相之间的相互作用 | 第56-60页 |
4.3.4 PLAR薄膜的光学性质 | 第60-62页 |
4.3.5 PLAR薄膜的水稳定性 | 第62-64页 |
4.3.6 PLAR薄膜的水降解过程 | 第64-68页 |
4.4 本章小结 | 第68-69页 |
5 结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-81页 |
攻读硕士期间研究成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |