| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 介孔材料的定义 | 第10页 |
| 1.2 介孔材料的结构特性 | 第10-11页 |
| 1.3 课题研究的背景 | 第11-12页 |
| 1.4 介孔纳米颗粒制备的发展史 | 第12-15页 |
| 1.4.1 稀溶液法 | 第12-13页 |
| 1.4.2 微乳法 | 第13-14页 |
| 1.4.3 添加剂 | 第14-15页 |
| 1.5 课题提出的意义 | 第15-17页 |
| 1.5.1 实验方案的设计 | 第15-16页 |
| 1.5.2 研究的目标 | 第16-17页 |
| 第2章 实验材料、原理以及表征方法 | 第17-22页 |
| 2.1 实验试剂与设备 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第17页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第17-18页 |
| 2.2 实验原理 | 第18-19页 |
| 2.2.1 液晶模板机理 | 第18页 |
| 2.2.2 硅酸液晶机理 | 第18-19页 |
| 2.2.3 协同自组装液晶相模板机理 | 第19页 |
| 2.3 TEOS 水解原理 | 第19-20页 |
| 2.4 表征方法 | 第20-21页 |
| 2.4.1 XRD | 第20页 |
| 2.4.2 SEM 和 TEM | 第20页 |
| 2.4.3 N_2吸附 | 第20-21页 |
| 2.4.4 红外光谱 | 第21页 |
| 2.4.5 热重分析 | 第21页 |
| 2.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 添加剂合成法 | 第22-36页 |
| 3.1 合成路线 | 第22-24页 |
| 3.1.1 合成路线 1-添加剂法路线 | 第22-23页 |
| 3.1.2 合成路线 2-界面反应路线 | 第23-24页 |
| 3.2 表征与分析 | 第24-30页 |
| 3.2.1 光学图片 | 第24-25页 |
| 3.2.2 XRD 衍射测试 | 第25-26页 |
| 3.2.3 SEM 测试 | 第26-27页 |
| 3.2.4 TEM 测试 | 第27-28页 |
| 3.2.5 红外光谱测试 | 第28-30页 |
| 3.3 不同添加剂量对介孔二氧化硅纳米颗粒的影响分析 | 第30-34页 |
| 3.3.1 乙醇胺加入量的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.2 酒石酸加入量的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.3 界面反应-丙三醇溶剂的使用量的影响 | 第32-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 Tris-HCl 缓冲体系合成法 | 第36-50页 |
| 4.1 实验合成工艺及参数 | 第36-37页 |
| 4.2 表征与分析 | 第37-49页 |
| 4.2.1 温度对合成球状介孔 MCM-41 的影响 | 第38-43页 |
| 4.2.2 体系 pH 值对合成球状介孔 MCM-41 的影响 | 第43-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
