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间隔法合成介孔KIT-6及纳米铸造法制备介孔镍

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-27页
    1.1 介孔材料概述第11-12页
    1.2 介孔材料的合成方法第12-16页
        1.2.1 水热合成法第12-14页
        1.2.2 溶剂挥发诱导自组装法第14页
        1.2.3 纳米铸造硬模板法第14-16页
    1.3 介孔材料的合成机理第16-19页
        1.3.1 协同组装机理第16-18页
        1.3.2 溶剂挥发诱导自组装机理第18页
        1.3.3 纳米铸造机理第18-19页
    1.4 介孔材料的分类第19-23页
        1.4.1 介孔硅基材料第19-20页
        1.4.2 介孔金属单质材料第20-21页
        1.4.3 介孔碳材料第21-22页
        1.4.4 介孔金属氧化物材料第22页
        1.4.5 介孔非氧化物陶瓷材料第22-23页
    1.5 介孔材料的结构与形貌第23-24页
        1.5.1 介孔材料的结构第23-24页
        1.5.2 介孔材料的形貌第24页
    1.6 介孔材料的应用第24-26页
        1.6.1 吸附与分离领域的应用第24-25页
        1.6.2 催化领域的应用第25页
        1.6.3 电化学领域的应用第25页
        1.6.4 生物领域的应用第25-26页
    1.7 论文选题第26-27页
第2章 以正硅酸四乙酯为硅源利用间隔法合成介孔KIT-6第27-41页
    2.1 引言第27-28页
    2.2 实验部分第28-30页
        2.2.1 实验试剂第28页
        2.2.2 实验设备及仪器第28页
        2.2.3 实验过程第28-29页
        2.2.4 表征方法第29-30页
    2.3 结果与讨论第30-40页
        2.3.1 间隔过程对KIT-6结构有序度和单胞尺寸的影响第30-34页
        2.3.2 间隔过程对介孔KIT-6孔径与壁厚的影响第34-37页
        2.3.3 不同水热老化温度对KIT-6结构的影响第37-39页
        2.3.4 间隔过程对颗粒尺寸的影响第39-40页
    2.4 本章小结第40-41页
第3章 以硅酸钠为硅源利用间隔法合成介孔KIT-6第41-53页
    3.1 引言第41-42页
    3.2 实验部分第42-43页
        3.2.1 实验试剂第42页
        3.2.2 实验设备及仪器第42页
        3.2.3 实验过程第42-43页
        3.2.4 表征方法第43页
    3.3 结果与讨论第43-52页
        3.3.1 间隔过程对KIT-6介观结构的影响第43-46页
        3.3.2 间隔过程对介孔KIT-6孔径的影响第46-50页
        3.3.3 不同水热老化温度对KIT-6结构的影响第50-51页
        3.3.4 间隔过程对KIT-6孔体积的影响第51-52页
    3.4 本章小结第52-53页
第4章 纳米铸造法制备介孔镍第53-73页
    4.1 引言第53-54页
    4.2 实验部分第54-56页
        4.2.1 实验试剂第54-55页
        4.2.2 实验设备及仪器第55页
        4.2.3 实验过程第55-56页
        4.2.4 表征方法第56页
    4.3 结果与讨论第56-71页
        4.3.1 模板的表征第56-58页
        4.3.2 介孔镍的制备机理与样品说明第58-60页
        4.3.3 升温制度的确定第60-61页
        4.3.4 介观结构的复制第61-66页
        4.3.5 材料的孔结构第66-68页
        4.3.6 材料的颗粒形貌第68-71页
    4.4 本章小结第71-73页
第5章 结论第73-75页
参考文献第75-83页
致谢第83页

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