石墨烯的热化学修饰及其费米能级依赖研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 石墨烯结构及基本性质 | 第9-10页 |
| 1.2 石墨烯的制备 | 第10-11页 |
| 1.3 石墨烯的化学修饰 | 第11-13页 |
| 1.4 石墨烯表面图案化 | 第13-15页 |
| 1.5 石墨烯化学修饰的调控 | 第15-20页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 单层石墨烯的热化学修饰 | 第21-38页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 单层石墨烯的制备 | 第22-29页 |
| 2.2.1 单层石墨烯的生长 | 第22-23页 |
| 2.2.2 CH4/H2比例对石墨烯生长影响 | 第23-25页 |
| 2.2.3 生长时间对石墨烯制备的影响 | 第25-27页 |
| 2.2.4 单层石墨烯的转移 | 第27-29页 |
| 2.3 石墨烯的热化学修饰原理 | 第29-31页 |
| 2.4 不同溶剂时的热化学修饰 | 第31-34页 |
| 2.4.1 丙酮溶剂时BPO与单层石墨烯反应 | 第31-32页 |
| 2.4.2 乙醇溶剂时BPO与单层石墨烯反应 | 第32-33页 |
| 2.4.3 水溶剂时BPO与单层石墨烯反应 | 第33-34页 |
| 2.5 激光引发的石墨烯化学修饰 | 第34-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-38页 |
| 第3章 石墨烯的图案化修饰 | 第38-43页 |
| 3.1 前言 | 第38页 |
| 3.2 石墨烯表面光刻工艺 | 第38-40页 |
| 3.3 图案化石墨烯的形成 | 第40-42页 |
| 3.4 小结 | 第42-43页 |
| 第4章 基于费米能级调控的石墨烯热化学修饰 | 第43-54页 |
| 4.1 前言 | 第43页 |
| 4.2 偏压调控石墨烯器件的制备及原理 | 第43-47页 |
| 4.2.1 金纳米电极的制备 | 第44-46页 |
| 4.2.2 偏压调控石墨烯器件结构 | 第46-47页 |
| 4.2.3 偏压调控费米能级的原理 | 第47页 |
| 4.3 利用拉曼光谱确定石墨烯费米能级 | 第47-50页 |
| 4.4 偏压调控的石墨烯热化学修饰 | 第50-53页 |
| 4.4.1 不同偏压下石墨烯热化学修饰的拉曼光谱 | 第50-51页 |
| 4.4.2 化学修饰引入的缺陷密度的确定 | 第51-52页 |
| 4.4.3 偏压调控石墨烯热化学修饰的原理 | 第52-53页 |
| 4.5 小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
