壳聚糖改性石膏晶须及其汞吸附性能研究
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-24页 |
1.1 课题背景 | 第11页 |
1.2 硫酸钙晶须(CSW)的概述 | 第11-17页 |
1.2.1 硫酸钙晶须的性质及特点 | 第11-13页 |
1.2.2 硫酸钙晶须的制备方法研究 | 第13-16页 |
1.2.3 硫酸钙晶须的应用 | 第16-17页 |
1.3 石膏晶须的表面改性研究现状 | 第17-19页 |
1.4 壳聚糖改性研究 | 第19-22页 |
1.4.1 壳聚糖简介 | 第19-20页 |
1.4.2 壳聚糖改性材料的研究进展 | 第20-22页 |
1.5 汞污染水体净化技术 | 第22-23页 |
1.5.1 汞的性质及危害 | 第22页 |
1.5.2 汞污染水体净化方法 | 第22-23页 |
1.6 研究目的、意义及主要内容 | 第23-24页 |
1.6.1 研究目的及意义 | 第23页 |
1.6.2 研究内容 | 第23-24页 |
第2章 实验原料与方法 | 第24-31页 |
2.1 主要实验试剂及仪器 | 第24-25页 |
2.1.1 实验试剂 | 第24页 |
2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.2 研究方法及实验操作 | 第25-27页 |
2.2.1 硫酸钙晶须的制备 | 第25页 |
2.2.2 硫酸钙晶须的表面改性 | 第25-26页 |
2.2.3 改性硫酸钙晶须吸附汞基本规律的研究 | 第26-27页 |
2.3 分析与表征方法 | 第27-31页 |
2.3.1 吸附等温线和吸附动力学 | 第27-29页 |
2.3.2 汞浓度的测试 | 第29-30页 |
2.3.3 形貌观察 | 第30页 |
2.3.4 X射线衍射 | 第30页 |
2.3.5 傅里叶红外光谱分析 | 第30页 |
2.3.6 热分析 | 第30-31页 |
第3章 硫酸钙晶须的制备 | 第31-41页 |
3.1 石膏晶须制备常规方法的比较 | 第31-33页 |
3.1.1 常规制备方法的特点 | 第31-32页 |
3.1.2 常规方法晶须产物的形貌比较 | 第32-33页 |
3.2 反应结晶法制备CSW的主要操作条件 | 第33-39页 |
3.2.1 聚合物P123的浓度 | 第33-34页 |
3.2.2 反应物的浓度 | 第34-35页 |
3.2.3 反应温度 | 第35-36页 |
3.2.4 溶液的pH值 | 第36-38页 |
3.2.5 反应时间 | 第38-39页 |
3.3 CSW的XRD分析 | 第39页 |
3.4 硫酸钙晶须的生长机理探讨 | 第39-40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 壳聚糖包覆改性硫酸钙晶须 | 第41-53页 |
4.1 改性剂的确定 | 第41-43页 |
4.2 石膏晶须改性的控制参数 | 第43-47页 |
4.2.1 改性pH值 | 第43-44页 |
4.2.2 改性温度 | 第44页 |
4.2.3 搅拌速度 | 第44-45页 |
4.2.4 改性剂的用量 | 第45-46页 |
4.2.5 改性反应条件的优化 | 第46-47页 |
4.3 改性硫酸钙晶须的表征分析 | 第47-51页 |
4.3.1 扫描电镜分析 | 第47-48页 |
4.3.2 红外分析 | 第48-49页 |
4.3.3 热重分析 | 第49-50页 |
4.3.4 XRD分析 | 第50-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-53页 |
第5章 改性硫酸钙晶须除汞的基本规律 | 第53-62页 |
5.1 操作参数对晶须除汞效果的影响 | 第53-56页 |
5.1.1 pH值 | 第53-54页 |
5.1.2 吸附时间 | 第54-55页 |
5.1.3 初始汞浓度 | 第55页 |
5.1.4 晶须用量 | 第55-56页 |
5.2 改性后晶须除汞作用机理分析 | 第56-60页 |
5.2.1 吸附等温线 | 第56-58页 |
5.2.2 改性晶须的吸附动力学分析 | 第58-60页 |
5.3 晶须吸附前后的SEM图片 | 第60-61页 |
5.4 本章小结 | 第61-62页 |
第6章 结论、建议及创新点 | 第62-64页 |
6.1 结论 | 第62-63页 |
6.2 论文不足与建议 | 第63页 |
6.3 创新点 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
附录 攻读硕士学位期间的学术成果 | 第70页 |