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壳聚糖改性石膏晶须及其汞吸附性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-24页
    1.1 课题背景第11页
    1.2 硫酸钙晶须(CSW)的概述第11-17页
        1.2.1 硫酸钙晶须的性质及特点第11-13页
        1.2.2 硫酸钙晶须的制备方法研究第13-16页
        1.2.3 硫酸钙晶须的应用第16-17页
    1.3 石膏晶须的表面改性研究现状第17-19页
    1.4 壳聚糖改性研究第19-22页
        1.4.1 壳聚糖简介第19-20页
        1.4.2 壳聚糖改性材料的研究进展第20-22页
    1.5 汞污染水体净化技术第22-23页
        1.5.1 汞的性质及危害第22页
        1.5.2 汞污染水体净化方法第22-23页
    1.6 研究目的、意义及主要内容第23-24页
        1.6.1 研究目的及意义第23页
        1.6.2 研究内容第23-24页
第2章 实验原料与方法第24-31页
    2.1 主要实验试剂及仪器第24-25页
        2.1.1 实验试剂第24页
        2.1.2 实验仪器第24-25页
    2.2 研究方法及实验操作第25-27页
        2.2.1 硫酸钙晶须的制备第25页
        2.2.2 硫酸钙晶须的表面改性第25-26页
        2.2.3 改性硫酸钙晶须吸附汞基本规律的研究第26-27页
    2.3 分析与表征方法第27-31页
        2.3.1 吸附等温线和吸附动力学第27-29页
        2.3.2 汞浓度的测试第29-30页
        2.3.3 形貌观察第30页
        2.3.4 X射线衍射第30页
        2.3.5 傅里叶红外光谱分析第30页
        2.3.6 热分析第30-31页
第3章 硫酸钙晶须的制备第31-41页
    3.1 石膏晶须制备常规方法的比较第31-33页
        3.1.1 常规制备方法的特点第31-32页
        3.1.2 常规方法晶须产物的形貌比较第32-33页
    3.2 反应结晶法制备CSW的主要操作条件第33-39页
        3.2.1 聚合物P123的浓度第33-34页
        3.2.2 反应物的浓度第34-35页
        3.2.3 反应温度第35-36页
        3.2.4 溶液的pH值第36-38页
        3.2.5 反应时间第38-39页
    3.3 CSW的XRD分析第39页
    3.4 硫酸钙晶须的生长机理探讨第39-40页
    3.5 本章小结第40-41页
第4章 壳聚糖包覆改性硫酸钙晶须第41-53页
    4.1 改性剂的确定第41-43页
    4.2 石膏晶须改性的控制参数第43-47页
        4.2.1 改性pH值第43-44页
        4.2.2 改性温度第44页
        4.2.3 搅拌速度第44-45页
        4.2.4 改性剂的用量第45-46页
        4.2.5 改性反应条件的优化第46-47页
    4.3 改性硫酸钙晶须的表征分析第47-51页
        4.3.1 扫描电镜分析第47-48页
        4.3.2 红外分析第48-49页
        4.3.3 热重分析第49-50页
        4.3.4 XRD分析第50-51页
    4.4 本章小结第51-53页
第5章 改性硫酸钙晶须除汞的基本规律第53-62页
    5.1 操作参数对晶须除汞效果的影响第53-56页
        5.1.1 pH值第53-54页
        5.1.2 吸附时间第54-55页
        5.1.3 初始汞浓度第55页
        5.1.4 晶须用量第55-56页
    5.2 改性后晶须除汞作用机理分析第56-60页
        5.2.1 吸附等温线第56-58页
        5.2.2 改性晶须的吸附动力学分析第58-60页
    5.3 晶须吸附前后的SEM图片第60-61页
    5.4 本章小结第61-62页
第6章 结论、建议及创新点第62-64页
    6.1 结论第62-63页
    6.2 论文不足与建议第63页
    6.3 创新点第63-64页
参考文献第64-69页
致谢第69-70页
附录 攻读硕士学位期间的学术成果第70页

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