| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-11页 |
| ·硼碳氮三元化合物的研究背景 | 第8-9页 |
| ·金刚石与立方氮化硼 | 第8页 |
| ·石墨与六方氮化硼 | 第8-9页 |
| ·硼碳氮薄膜的性质及应用前景 | 第9-10页 |
| ·本文的选题和主要研究内容 | 第10-11页 |
| 2 硼碳氮薄膜的主要的制备方法和表征方法 | 第11-20页 |
| ·硼碳氮薄膜的主要制备方法 | 第11-13页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第11-12页 |
| ·磁控溅射沉积法 | 第12-13页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD)法 | 第13页 |
| ·硼碳氮薄膜的主要表征方法 | 第13-20页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第14-16页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第16页 |
| ·纳米压痕技术 | 第16-18页 |
| ·台阶仪 | 第18-19页 |
| ·分析法(XRD) | 第19-20页 |
| 3 磁控溅射系统制备B-C-N薄膜的设备与工艺 | 第20-24页 |
| ·JEPG450型高真空射频磁控溅射系统简介 | 第20-22页 |
| ·硼碳氮薄膜的制备工艺 | 第22-24页 |
| ·基片的选择与处理 | 第22-23页 |
| ·薄膜的具体沉积参数 | 第23-24页 |
| 4 石墨靶提供碳源时硼碳氮薄膜的表征 | 第24-35页 |
| ·石墨靶功率变化对薄膜的影响 | 第24-29页 |
| ·X射线衍射谱 | 第24-25页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)结果分析 | 第25-26页 |
| ·原子力显微(AFM)结果分析 | 第26-28页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第28-29页 |
| ·溅射温度变化对薄膜的影响 | 第29-33页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR)结果分析 | 第30-31页 |
| ·原子力显微(AFM)结果分析 | 第31-32页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第32-33页 |
| ·负偏压对薄膜的影响 | 第33-35页 |
| 5 甲烷提供碳源时B-C-N薄膜的表征 | 第35-46页 |
| ·甲烷流量的变化对薄膜的影响 | 第35-39页 |
| ·X射线衍射谱 | 第35-36页 |
| ·不同CH_4/N_2/Ar流量比下B-C-N薄膜的红外光谱 | 第36-37页 |
| ·原子力显微(AFM)结果分析 | 第37-39页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第39页 |
| ·改变溅射温度 | 第39-41页 |
| ·不同溅射温度下B-C-N薄膜的红外光谱 | 第39-41页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第41页 |
| ·改变氮气流量 | 第41-43页 |
| ·不同氮气流量下B-C-N薄膜的红外光谱 | 第42-43页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第43页 |
| ·偏压对B-C-N薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·不同负偏压下B-C-N薄膜的红外光谱 | 第44-45页 |
| ·台阶仪结果分析 | 第45-46页 |
| 6 B-C-N薄膜硬度的研究 | 第46-48页 |
| ·成键类型对B-C-N薄膜硬度的影响 | 第46页 |
| ·基片研磨对B-C-N薄膜硬度的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |