| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-21页 |
| ·选题背景 | 第7-8页 |
| ·倍半硅氧烷类低介电性能材料 | 第8-12页 |
| ·同步辐射小角X射线散射概述 | 第12-16页 |
| ·本文的研究内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-21页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征方法 | 第21-25页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-23页 |
| ·薄膜的表征仪器及方法 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-25页 |
| 第三章 薄膜的表征结果与讨论 | 第25-33页 |
| ·致孔剂为Tween-20的多孔薄膜形貌表征结果与讨论 | 第25-29页 |
| ·致孔剂为P-2的多孔薄膜表征结果与讨论 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第四章 PPSQ基系列多孔薄膜的GISAXS分析 | 第33-59页 |
| ·致孔剂为Tween-20的多孔薄膜分析结果与讨论 | 第33-49页 |
| ·致孔剂为P-2的多孔薄膜测试结果与讨论 | 第49-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第五章 全文总结 | 第59-61页 |
| 硕士研究生阶段所发表论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |