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硫族半导体光催化材料的修饰及其性能的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-20页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 三元金属硫化物光催化剂的研究进展第11-13页
        1.2.1 三元金属硫化物制备方法、形貌以及光催化性能第12-13页
    1.3 碳材料第13-14页
    1.4 石墨烯(rGO)与光催化第14-16页
    1.5 硫化锡光催化剂第16页
    1.6 磁性材料铁酸锌第16-18页
    1.7 本课题研究的目的和主要内容第18-20页
第二章r GO/SnIn_4S_8光催化剂的制备及其光催化性能研究第20-40页
    2.1 前言第20-21页
    2.2 实验第21-24页
        2.2.1 实验试剂第21-22页
        2.2.2 低温合成硫化铟锡和硫化铟锡/石墨烯的复合物第22页
        2.2.3 暗处的吸附动力学第22-23页
        2.2.4 电化学测量第23页
        2.2.5 光催化实验第23-24页
        2.2.6 rGO/SnIn_4S_8复合催化剂的重复利用第24页
    2.3 结果与讨论第24-39页
        2.3.1 扫描电镜分析(SEM)第24-25页
        2.3.2 X射线衍射分析(XRD)第25-26页
        2.3.3 拉曼光谱第26-27页
        2.3.4 比表面积(BET)分析第27-28页
        2.3.5 光学性质(UV-Vis)第28-29页
        2.3.6 莫特肖特基 (Mott-Schottky)分析第29-30页
        2.3.7 固体荧光发射光谱分析(PL)第30-31页
        2.3.8 吸附动力学第31-33页
        2.3.9 光催化活性分析第33-34页
        2.3.10 rGO/SnIn_4S_8复合材料的再生和重复利用第34-35页
        2.3.11 光催化机理分析第35-36页
        2.3.12 紫外-可见扫描光谱第36-37页
        2.3.13 中间产物的分离和降解途径的分析第37-38页
        2.3.14 罗明丹B (RhB)的矿化分析第38-39页
    2.4 小结第39-40页
第三章 三元SnS_2/ZnFe_2O_4/还原氧化石墨烯纳米复合材料提高可见光下光催化的性能第40-60页
    3.1 前言第40-41页
    3.2 实验第41-44页
        3.2.1 实验试剂第41页
        3.2.2 仪器第41-42页
        3.2.3 不同摩尔比的SnS_2/ZnFe_2O_4的制备第42页
        3.2.4 样品的表征第42-43页
        3.2.5 光催化实验第43页
        3.2.6 暗处的吸附动力学第43-44页
    3.3 结果与讨论第44-58页
        3.3.1 固体荧光发射光谱分析第44-45页
        3.3.2 光电流响应第45页
        3.3.3 光催化的形貌结构(SEM)第45-46页
        3.3.4 XRD分析第46-47页
        3.3.5 吸附动力学分析第47-49页
        3.3.6 比表面积和孔结构的分析第49-51页
        3.3.7 紫外可见漫反射光谱分析第51-53页
        3.3.8 电位-阻抗分析第53-54页
        3.3.9 溶液的pH值对光催化效果的影响分析第54-55页
        3.3.10 光催化性能分析第55-56页
        3.3.11 ZnFe_2O_4/SnS_2/rGO降解机理的分析第56-58页
        3.3.12 ZnFe_2O_4/SnS_2/rGO复合物的重复利用第58页
    3.4 结论第58-60页
第四章 硫化锡和碳三氮四复合材料的制备、表征及光催化性能研究第60-77页
    4.1 引言第60-61页
    4.2 实验第61-64页
        4.2.1 实验试剂第61页
        4.2.2 实验仪器第61-62页
        4.2.3 g-C_3N_4以及SnS_2材料的制备第62页
        4.2.4 g-C_3N_4/SnS_2复合材料的制备第62-63页
        4.2.5 样品的表征第63页
        4.2.6 光催化实验第63-64页
        4.2.7 光电流和电化学阻抗第64页
    4.3 结果与讨论第64-76页
        4.3.1 XRD分析第64-65页
        4.3.2 扫描电镜(SEM)分析第65-66页
        4.3.3 EDS分析第66-67页
        4.3.4 比表面积和孔结构的分析第67-68页
        4.3.5 紫外可见漫反射光谱分析第68-69页
        4.3.6 莫特肖特基曲线分析第69-70页
        4.3.7 固体荧光发射光谱分析第70-71页
        4.3.8 光电流响应和电化学阻抗分析第71-72页
        4.3.9 光催化性能分析第72-73页
        4.3.10 紫外可见光谱扫描第73-74页
        4.3.11 光催化机理分析第74-75页
        4.3.12 15% g-C_3N_4/SnS_2的重复利用性第75-76页
    4.4 结论第76-77页
第五章 结论与展望第77-78页
参考文献第78-87页
硕士期间发表成果第87-88页
致谢第88-89页

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