摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 三元金属硫化物光催化剂的研究进展 | 第11-13页 |
1.2.1 三元金属硫化物制备方法、形貌以及光催化性能 | 第12-13页 |
1.3 碳材料 | 第13-14页 |
1.4 石墨烯(rGO)与光催化 | 第14-16页 |
1.5 硫化锡光催化剂 | 第16页 |
1.6 磁性材料铁酸锌 | 第16-18页 |
1.7 本课题研究的目的和主要内容 | 第18-20页 |
第二章r GO/SnIn_4S_8光催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第20-40页 |
2.1 前言 | 第20-21页 |
2.2 实验 | 第21-24页 |
2.2.1 实验试剂 | 第21-22页 |
2.2.2 低温合成硫化铟锡和硫化铟锡/石墨烯的复合物 | 第22页 |
2.2.3 暗处的吸附动力学 | 第22-23页 |
2.2.4 电化学测量 | 第23页 |
2.2.5 光催化实验 | 第23-24页 |
2.2.6 rGO/SnIn_4S_8复合催化剂的重复利用 | 第24页 |
2.3 结果与讨论 | 第24-39页 |
2.3.1 扫描电镜分析(SEM) | 第24-25页 |
2.3.2 X射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
2.3.3 拉曼光谱 | 第26-27页 |
2.3.4 比表面积(BET)分析 | 第27-28页 |
2.3.5 光学性质(UV-Vis) | 第28-29页 |
2.3.6 莫特肖特基 (Mott-Schottky)分析 | 第29-30页 |
2.3.7 固体荧光发射光谱分析(PL) | 第30-31页 |
2.3.8 吸附动力学 | 第31-33页 |
2.3.9 光催化活性分析 | 第33-34页 |
2.3.10 rGO/SnIn_4S_8复合材料的再生和重复利用 | 第34-35页 |
2.3.11 光催化机理分析 | 第35-36页 |
2.3.12 紫外-可见扫描光谱 | 第36-37页 |
2.3.13 中间产物的分离和降解途径的分析 | 第37-38页 |
2.3.14 罗明丹B (RhB)的矿化分析 | 第38-39页 |
2.4 小结 | 第39-40页 |
第三章 三元SnS_2/ZnFe_2O_4/还原氧化石墨烯纳米复合材料提高可见光下光催化的性能 | 第40-60页 |
3.1 前言 | 第40-41页 |
3.2 实验 | 第41-44页 |
3.2.1 实验试剂 | 第41页 |
3.2.2 仪器 | 第41-42页 |
3.2.3 不同摩尔比的SnS_2/ZnFe_2O_4的制备 | 第42页 |
3.2.4 样品的表征 | 第42-43页 |
3.2.5 光催化实验 | 第43页 |
3.2.6 暗处的吸附动力学 | 第43-44页 |
3.3 结果与讨论 | 第44-58页 |
3.3.1 固体荧光发射光谱分析 | 第44-45页 |
3.3.2 光电流响应 | 第45页 |
3.3.3 光催化的形貌结构(SEM) | 第45-46页 |
3.3.4 XRD分析 | 第46-47页 |
3.3.5 吸附动力学分析 | 第47-49页 |
3.3.6 比表面积和孔结构的分析 | 第49-51页 |
3.3.7 紫外可见漫反射光谱分析 | 第51-53页 |
3.3.8 电位-阻抗分析 | 第53-54页 |
3.3.9 溶液的pH值对光催化效果的影响分析 | 第54-55页 |
3.3.10 光催化性能分析 | 第55-56页 |
3.3.11 ZnFe_2O_4/SnS_2/rGO降解机理的分析 | 第56-58页 |
3.3.12 ZnFe_2O_4/SnS_2/rGO复合物的重复利用 | 第58页 |
3.4 结论 | 第58-60页 |
第四章 硫化锡和碳三氮四复合材料的制备、表征及光催化性能研究 | 第60-77页 |
4.1 引言 | 第60-61页 |
4.2 实验 | 第61-64页 |
4.2.1 实验试剂 | 第61页 |
4.2.2 实验仪器 | 第61-62页 |
4.2.3 g-C_3N_4以及SnS_2材料的制备 | 第62页 |
4.2.4 g-C_3N_4/SnS_2复合材料的制备 | 第62-63页 |
4.2.5 样品的表征 | 第63页 |
4.2.6 光催化实验 | 第63-64页 |
4.2.7 光电流和电化学阻抗 | 第64页 |
4.3 结果与讨论 | 第64-76页 |
4.3.1 XRD分析 | 第64-65页 |
4.3.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第65-66页 |
4.3.3 EDS分析 | 第66-67页 |
4.3.4 比表面积和孔结构的分析 | 第67-68页 |
4.3.5 紫外可见漫反射光谱分析 | 第68-69页 |
4.3.6 莫特肖特基曲线分析 | 第69-70页 |
4.3.7 固体荧光发射光谱分析 | 第70-71页 |
4.3.8 光电流响应和电化学阻抗分析 | 第71-72页 |
4.3.9 光催化性能分析 | 第72-73页 |
4.3.10 紫外可见光谱扫描 | 第73-74页 |
4.3.11 光催化机理分析 | 第74-75页 |
4.3.12 15% g-C_3N_4/SnS_2的重复利用性 | 第75-76页 |
4.4 结论 | 第76-77页 |
第五章 结论与展望 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-87页 |
硕士期间发表成果 | 第87-88页 |
致谢 | 第88-89页 |